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液体处理装置和液体处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110308182.9
申请日
:
2021-03-23
公开(公告)号
:
CN113441195A
公开(公告)日
:
2021-09-28
发明(设计)人
:
山内拓史
申请人
:
申请人地址
:
日本埼玉县川口市
IPC主分类号
:
B01L300
IPC分类号
:
代理机构
:
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
:
杨芳;臧建明
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-09-28
公开
公开
共 50 条
[41]
液体处理方法和装置
[P].
保坂明仁
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保坂明仁
;
秋野正二
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秋野正二
;
大塚浩
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大塚浩
.
中国专利
:CN1475451A
,2004-02-18
[42]
液体处理方法和装置
[P].
A·B·安德森
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A·B·安德森
.
中国专利
:CN101553434B
,2009-10-07
[43]
液体处理装置和包括该液体处理装置的液体处理系统
[P].
金承渊
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金承渊
;
金保成
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金保成
;
徐圣镇
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
徐圣镇
;
张珉洙
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
张珉洙
;
张峻源
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
张峻源
;
全贤贞
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
全贤贞
;
崔岘焘
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
崔岘焘
;
D·许
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
D·许
;
W·洪
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
W·洪
.
韩国专利
:CN120079116A
,2025-06-03
[44]
液体处理方法以及用于该液体处理方法的液体处理装置
[P].
枝川晶义
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枝川晶义
;
山本宽
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山本宽
;
永冈秀基
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永冈秀基
;
船越英典
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船越英典
;
小棚木拓也
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小棚木拓也
;
榊原隆司
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榊原隆司
.
中国专利
:CN105189367A
,2015-12-23
[45]
液体处理装置及在液体处理装置中处理液体的方法
[P].
克里斯托弗·霍伊
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机构:
比尔克特韦尔克有限两合公司
比尔克特韦尔克有限两合公司
克里斯托弗·霍伊
.
德国专利
:CN119955613A
,2025-05-09
[46]
液体处理装置及其制造方法和液体处理系统
[P].
托马斯·内格尔
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托马斯·内格尔
;
马库斯·霍恩
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马库斯·霍恩
;
西蒙·弗洛伦
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西蒙·弗洛伦
;
玛丽亚·法斯特内尔
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玛丽亚·法斯特内尔
.
中国专利
:CN108067023A
,2018-05-25
[47]
液体处理单元及液体处理装置
[P].
吉川直毅
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吉川直毅
;
北出祐基
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北出祐基
.
中国专利
:CN106573809A
,2017-04-19
[48]
基板液体处理装置以及基板液体处理方法
[P].
田中裕司
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田中裕司
;
南辉臣
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南辉臣
;
川渕洋介
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川渕洋介
;
伊藤规宏
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伊藤规宏
;
上村史洋
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上村史洋
;
薮田贵士
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薮田贵士
;
小佐井一树
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小佐井一树
;
乌野崇
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乌野崇
;
关口贤治
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关口贤治
;
藤井康
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0
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藤井康
.
中国专利
:CN102044412A
,2011-05-04
[49]
用于液体处理装置的驱动单元和液体处理装置
[P].
M·哈姆斯
论文数:
0
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0
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0
M·哈姆斯
.
中国专利
:CN112118880B
,2020-12-22
[50]
液体处理装置以及液体处理装置的控制方法
[P].
佐佐木新二
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐佐木新二
.
日本专利
:CN111916343B
,2025-08-12
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