超细单分散憎水二氧化硅颗粒的制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN94104007.0

申请日：

1994-04-13

公开(公告)号：

CN1097718A

公开(公告)日：

1995-01-25

发明(设计)人：

傅小安江龙

申请人：

申请人地址：

100101北京市北沙滩中科院感光所

IPC主分类号：

C01B33145

IPC分类号：

C01B3313

代理机构：

北京市专利事务所

代理人：

郭佩兰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
1995-01-25	公开	公开
1995-01-11	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效
1997-07-23	专利申请的视为撤回	专利申请的视为撤回

共 50 条

[1]

制备高纯度、单分散憎水超细二氧化硅颗粒的方法 [P].

唐芳琼 ;

李津茹 ;

袁金锁 ;

江龙 .

中国专利 :CN1057818A ,1992-01-15

[2]

细二氧化硅颗粒 [P].

大原雅和 ;

木村稔 ;

青木博男 .

中国专利 :CN100569642C ,2006-04-05

[3]

二氧化硅颗粒以及二氧化硅颗粒的制备方法 [P].

奥野广良 ;

井上敏司 ;

饭田能史 ;

中岛与人 ;

钱谷优香 ;

惠利祥史 ;

角仓康夫 ;

师冈泰久 ;

野崎骏介 ;

岩永猛 ;

竹内荣 .

中国专利 :CN106517214A ,2017-03-22

[4]

超细二氧化硅的制备方法 [P].

袁伟 .

中国专利 :CN1186044A ,1998-07-01

[5]

二氧化硅颗粒分散液 [P].

加茂博道 .

日本专利 :CN119156348A ,2024-12-17

[6]

单分散纳米球形二氧化硅的制备方法及纳米二氧化硅 [P].

熊仕显 ;

蒋绪川 ;

余艾冰 .

中国专利 :CN104211073A ,2014-12-17

[7]

二氧化硅颗粒和二氧化硅颗粒的制造方法 [P].

加藤怜实 ;

平野义宏 ;

木村将也 ;

河本宗范 ;

夫马康博 ;

三木万海 .

日本专利 :CN120035564A ,2025-05-23

[8]

中孔二氧化硅细颗粒的制备方法、中孔二氧化硅细颗粒、中孔二氧化硅细颗粒的液体分散体、含中孔二氧化硅细颗粒的组合物和含中孔二氧化硅细颗粒的模制品 [P].

矢部裕城 ;

山木健之 ;

干川康人 ;

大久保达也 ;

下嶋敦 .

中国专利 :CN102574693B ,2012-07-11

[9]

二氧化硅颗粒的制备方法 [P].

竹内荣 ;

川岛信一郎 ;

奥野广良 ;

吉川英昭 ;

增田悠二 ;

野崎骏介 ;

钱谷优香 .

中国专利 :CN102557049A ,2012-07-11

[10]

二氧化硅颗粒的制备方法 [P].

M·祖赫 ;

G·舍茨 ;

A·朗纳 .

中国专利 :CN104271507A ,2015-01-07

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