一种等离子体化学气相沉积设备中的进气控制装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN200920095019.3

申请日：

2009-12-17

公开(公告)号：

CN201567372U

公开(公告)日：

2010-09-01

发明(设计)人：

张继泽刘万学王巍程明辉朱艳伟曲爽杨帅

申请人：

申请人地址：

136001 吉林省四平市烟厂路1118号

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

代理机构：

吉林省长春市新时代专利商标代理有限公司 22204

代理人：

石岱

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-12-06	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20091217 授权公告日:20100901 终止日期:20181217
2010-09-01	授权	授权

共 50 条

[1]

一种等离子体化学气相沉积进气装置 [P].

刘万学 ;

张兵 ;

张宝平 ;

钟福建 .

中国专利 :CN201326014Y ,2009-10-14

[2]

等离子体化学气相沉积连续生产装置 [P].

杨继泽 ;

刘万学 ;

张兵 ;

宋涛 ;

朱宏伟 .

中国专利 :CN201804896U ,2011-04-20

[3]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

米山典孝 ;

大泽笃史 ;

坂本拓海 ;

中岛直人 .

中国专利 :CN105018899A ,2015-11-04

[4]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

I·米莉瑟维克 ;

M·J·N·范·斯特劳伦 ;

G·克拉比希斯 ;

A·H·E·布勒尔斯 .

中国专利 :CN115369380A ,2022-11-22

[5]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

富田修弘 ;

庄健太郎 ;

笠谷昌史 .

中国专利 :CN1103382C ,1998-09-09

[6]

一种等离子体化学气相沉积设备的高效进气机构 [P].

魏安求 ;

逯好峰 ;

叶小健 .

中国专利 :CN222574781U ,2025-03-07

[7]

一种等离子体化学气相沉积设备进气机构 [P].

王蕾 ;

王艳 ;

蒋宏博 .

中国专利 :CN218059191U ,2022-12-16

[8]

一种等离子体化学气相沉积装置 [P].

朱珠 .

中国专利 :CN206635413U ,2017-11-14

[9]

一种等离子体化学气相沉积装置 [P].

赵月 .

中国专利 :CN216972679U ,2022-07-15

[10]

等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统 [P].

杨普磊 ;

祖章旭 ;

赵成林 .

中国专利 :CN203284462U ,2013-11-13

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