等离子体化学气相沉积连续生产装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201020187774.7

申请日：

2010-05-06

公开(公告)号：

CN201804896U

公开(公告)日：

2011-04-20

发明(设计)人：

杨继泽刘万学张兵宋涛朱宏伟

申请人：

申请人地址：

136001 吉林省四平市烟厂路1118

IPC主分类号：

H01L3120

IPC分类号：

C23C1654

代理机构：

吉林省长春市新时代专利商标代理有限公司 22204

代理人：

石岱

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-04-24	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 31/20 申请日:20100506 授权公告日:20110420 终止日期:20190506
2011-04-20	授权	授权

共 50 条

[1]

一种等离子体化学气相沉积进气装置 [P].

刘万学 ;

张兵 ;

张宝平 ;

钟福建 .

中国专利 :CN201326014Y ,2009-10-14

[2]

连续式等离子体化学气相沉积装置 [P].

玉垣浩 ;

芳贺润二 .

中国专利 :CN104903491A ,2015-09-09

[3]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

米山典孝 ;

大泽笃史 ;

坂本拓海 ;

中岛直人 .

中国专利 :CN105018899A ,2015-11-04

[4]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

I·米莉瑟维克 ;

M·J·N·范·斯特劳伦 ;

G·克拉比希斯 ;

A·H·E·布勒尔斯 .

中国专利 :CN115369380A ,2022-11-22

[5]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

富田修弘 ;

庄健太郎 ;

笠谷昌史 .

中国专利 :CN1103382C ,1998-09-09

[6]

一种能自行降温的等离子体化学气相沉积仓室 [P].

杨继泽 ;

刘万学 ;

张兵 ;

王巍 ;

程明辉 ;

左腾 ;

徐柏章 ;

曲爽 .

中国专利 :CN201545910U ,2010-08-11

[7]

一种等离子体化学气相沉积设备中的进气控制装置 [P].

张继泽 ;

刘万学 ;

王巍 ;

程明辉 ;

朱艳伟 ;

曲爽 ;

杨帅 .

中国专利 :CN201567372U ,2010-09-01

[8]

一种等离子体化学气相沉积装置 [P].

朱珠 .

中国专利 :CN206635413U ,2017-11-14

[9]

一种等离子体化学气相沉积装置 [P].

赵月 .

中国专利 :CN216972679U ,2022-07-15

[10]

微波等离子体化学气相沉积设备 [P].

刘文科 ;

李俊宏 ;

胡宗义 .

中国专利 :CN223705738U ,2025-12-23

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