抛光机晶片保持器

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201711240271.4

申请日：

2017-11-30

公开(公告)号：

CN108527155A

公开(公告)日：

2018-09-14

发明(设计)人：

D.M.赫顿 G.W.维默斯伯格 M.L.帕加诺

申请人：

申请人地址：

美国宾夕法尼亚州

IPC主分类号：

B24B4106

IPC分类号：

B24B2902

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

葛青

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-09-14	公开	公开
2020-07-07	授权	授权
2018-10-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 41/06 申请日:20171130

共 50 条

[1]

晶片抛光机水槽及晶片抛光机 [P].

章姣 ;

林义复 .

中国专利 :CN222843689U ,2025-05-09

[2]

晶片抛光机 [P].

吴康 ;

殷国祥 ;

王绍鸿 ;

王鸿伟 ;

黄国洪 ;

胡文宏 ;

孟进有 .

中国专利 :CN202114607U ,2012-01-18

[3]

晶片单面抛光机 [P].

李明 ;

陈明寿 ;

杨理 .

中国专利 :CN302020928S ,2012-08-01

[4]

半导体晶片抛光机 [P].

张学良 ;

罗颖渊 ;

唐敏 ;

王泽胜 .

中国专利 :CN115674005A ,2023-02-03

[5]

一种晶片抛光机 [P].

俞平 .

中国专利 :CN210650092U ,2020-06-02

[6]

一种晶片抛光机 [P].

潘芳琳 .

中国专利 :CN208358576U ,2019-01-11

[7]

蓝宝石晶片四柱抛光机 [P].

吴康 ;

胡文宏 ;

李国洪 ;

殷国祥 .

中国专利 :CN206140276U ,2017-05-03

[8]

一种双面晶片抛光机 [P].

任明元 ;

梁春 ;

强彦东 ;

张景斌 .

中国专利 :CN118769111B ,2025-02-25

[9]

抛光机晶片在线清洗装置 [P].

刘涛 ;

高慧莹 ;

陈学森 .

中国专利 :CN101797714A ,2010-08-11

[10]

一种双面晶片抛光机 [P].

奂微微 ;

郭军 ;

顾德进 ;

刘媛 ;

杨锋 .

中国专利 :CN117325063A ,2024-01-02

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