用于化学机械平坦化设备的抛光头压力控制设备及方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911303301.0

申请日：

2019-12-17

公开(公告)号：

CN110883680A

公开(公告)日：

2020-03-17

发明(设计)人：

蔡宁远朱铭

申请人：

申请人地址：

311305 浙江省杭州市临安区青山湖街道创业街88号1幢一层

IPC主分类号：

B24B37005

IPC分类号：

B24B3734

代理机构：

上海元好知识产权代理有限公司 31323

代理人：

徐雯琼;包姝晴

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-04-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/005 申请日:20191217
2021-08-10	授权	授权
2020-03-17	公开	公开

共 50 条

[1]

一种抛光头及化学机械平坦化设备 [P].

具滋贤 ;

杨涛 ;

张月 ;

刘青 .

中国专利 :CN114473852A ,2022-05-13

[2]

化学机械平坦化设备 [P].

张庭熏 ;

颜宏 ;

沈稘翔 ;

黄富明 ;

林均洁 ;

张宗宪 ;

崔骥 ;

陈亮光 ;

陈志宏 ;

陈科维 .

中国专利 :CN113134783A ,2021-07-20

[3]

用于抛光模组的预化学机械平坦化的方法与设备 [P].

H·陈 ;

J·阿特金森 ;

A·L·德阿姆巴拉 .

中国专利 :CN104303272B ,2015-01-21

[4]

化学机械平坦化的方法及其设备 [P].

刘文贵 .

中国专利 :CN109848836B ,2019-06-07

[5]

用于控制化学机械平坦化的系统及方法 [P].

许峻维 .

中国专利 :CN114633201A ,2022-06-17

[6]

一种抛光装置及化学机械平坦化设备 [P].

崔凯 ;

李婷 ;

蒋锡兵 ;

岳爽 ;

徐俊成 ;

尹影 .

中国专利 :CN111958479B ,2020-11-20

[7]

用于化学机械平坦化后的基板清洗的方法及设备 [P].

S-H·高 ;

L·卡鲁比亚 .

中国专利 :CN104956467B ,2015-09-30

[8]

用于化学机械平坦化的多步抛光液 [P].

刘振东 ;

J·匡西 ;

R·E·施密特 ;

T·M·托马斯 .

中国专利 :CN1324105C ,2006-01-18

[9]

抛光垫修整器及化学机械平坦化的方法 [P].

宋健民 .

中国专利 :CN110871407A ,2020-03-10

[10]

用于超硬材料的化学机械平坦化抛光垫及制备、抛光方法 [P].

潘国顺 ;

周艳 ;

罗桂海 ;

顾忠华 ;

邹春莉 ;

龚桦 .

中国专利 :CN103252710B ,2013-08-21

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