用于抛光模组的预化学机械平坦化的方法与设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380023950.X

申请日：

2013-04-16

公开(公告)号：

CN104303272B

公开(公告)日：

2015-01-21

发明(设计)人：

H·陈 J·阿特金森 A·L·德阿姆巴拉

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

B24B3704

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

陆勍

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-05-20	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101611026611 IPC(主分类):H01L 21/304 专利申请号:201380023950X 申请日:20130416
2015-01-21	公开	公开
2017-06-16	授权	授权

共 50 条

[1]

用于化学机械平坦化的多步抛光液 [P].

刘振东 ;

J·匡西 ;

R·E·施密特 ;

T·M·托马斯 .

中国专利 :CN1324105C ,2006-01-18

[2]

化学机械平坦化的方法及其设备 [P].

刘文贵 .

中国专利 :CN109848836B ,2019-06-07

[3]

化学机械平坦化设备 [P].

张庭熏 ;

颜宏 ;

沈稘翔 ;

黄富明 ;

林均洁 ;

张宗宪 ;

崔骥 ;

陈亮光 ;

陈志宏 ;

陈科维 .

中国专利 :CN113134783A ,2021-07-20

[4]

化学机械研磨浆液与化学机械平坦化方法 [P].

侯惠芳 ;

刘文政 ;

陈彦良 ;

陈瑞清 .

中国专利 :CN101220255B ,2008-07-16

[5]

用于化学机械平坦化设备的抛光头压力控制设备及方法 [P].

蔡宁远 ;

朱铭 .

中国专利 :CN110883680A ,2020-03-17

[6]

用于化学机械平坦化后的基板抛光预清洁的系统、方法和装置 [P].

C·P·萨卡塔 ;

H·陈 ;

J·K·阿特金森 ;

B·J·布朗 ;

J·唐 ;

Y·陈 ;

Y·丁 .

中国专利 :CN105722641A ,2016-06-29

[7]

化学机械平坦化的方法 [P].

粘博钦 ;

黄罡 ;

洪伟伦 .

中国专利 :CN111952163A ,2020-11-17

[8]

用于控制化学机械平坦化的系统及方法 [P].

许峻维 .

中国专利 :CN114633201A ,2022-06-17

[9]

化学机械平坦化的系统及方法 [P].

许峻维 .

中国专利 :CN114695104A ,2022-07-01

[10]

一种化学机械平坦化设备 [P].

费玖海 ;

刘福强 .

中国专利 :CN111673607A ,2020-09-18

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