用于化学机械平坦化后的基板抛光预清洁的系统、方法和装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480057214.0

申请日：

2014-10-24

公开(公告)号：

CN105722641A

公开(公告)日：

2016-06-29

发明(设计)人：

C·P·萨卡塔 H·陈 J·K·阿特金森 B·J·布朗 J·唐 Y·陈 Y·丁

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

B24B3734

IPC分类号：

B24B3704 B25J1500

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

黄嵩泉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-06-29	公开	公开
2019-05-28	授权	授权
2016-12-21	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101693169112 IPC(主分类):B24B 37/34 专利申请号:2014800572140 申请日:20141024

共 50 条

[1]

用于抛光模组的预化学机械平坦化的方法与设备 [P].

H·陈 ;

J·阿特金森 ;

A·L·德阿姆巴拉 .

中国专利 :CN104303272B ,2015-01-21

[2]

用于化学机械平坦化后的基板清洗的方法及设备 [P].

S-H·高 ;

L·卡鲁比亚 .

中国专利 :CN104956467B ,2015-09-30

[3]

用于化学机械平坦化后的含水清洁液组合物 [P].

陈建清 .

中国专利 :CN1164724C ,2002-09-25

[4]

用于化学机械平坦化的多步抛光液 [P].

刘振东 ;

J·匡西 ;

R·E·施密特 ;

T·M·托马斯 .

中国专利 :CN1324105C ,2006-01-18

[5]

化学机械平坦化的方法 [P].

粘博钦 ;

黄罡 ;

洪伟伦 .

中国专利 :CN111952163A ,2020-11-17

[6]

用于铜的化学机械平坦化的浆料和方法 [P].

S·V·巴布 ;

沙拉斯·海格德 ;

苏尼尔·扎 ;

尤达雅·B·帕特里 ;

洪荣基 .

中国专利 :CN1863883A ,2006-11-15

[7]

化学机械平坦化的系统及方法 [P].

许峻维 .

中国专利 :CN114695104A ,2022-07-01

[8]

化学机械平坦化系统和使用其的方法 [P].

苏芳仪 .

中国专利 :CN110871403B ,2020-03-10

[9]

用于具有荧光检测的化学机械平坦化的系统和方法 [P].

刘翼硕 ;

黄惠琪 ;

蔡荣赞 ;

李健平 .

中国专利 :CN104647194A ,2015-05-27

[10]

用于控制化学机械平坦化的系统及方法 [P].

许峻维 .

中国专利 :CN114633201A ,2022-06-17

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