一种用于硫系相变材料的化学机械抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110320251.4

申请日：

2011-10-20

公开(公告)号：

CN102441819B

公开(公告)日：

2012-05-09

发明(设计)人：

张楷亮张涛峰王芳赵金石曲长庆

申请人：

申请人地址：

300384 天津市南开区红旗南路延长线天津理工大学主校区

IPC主分类号：

B24B100

IPC分类号：

C09G102

代理机构：

天津佳盟知识产权代理有限公司 12002

代理人：

侯力

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-05-09	公开	公开
2014-03-19	授权	授权
2012-06-27	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101271727342 IPC(主分类):B24B 1/00 专利申请号:2011103202514 申请日:20111020

共 50 条

[1]

硫系相变材料化学机械抛光的无磨料抛光液及其应用 [P].

张楷亮 ;

宋志棠 ;

封松林 ;

陈邦明 .

中国专利 :CN100335581C ,2005-06-29

[2]

硫系化合物相变材料氧化铈化学机械抛光液 [P].

王良咏 ;

宋志棠 ;

刘波 ;

封松林 .

中国专利 :CN101372606A ,2009-02-25

[3]

一种相变材料化学机械抛光方法及设备 [P].

李东平 .

中国专利 :CN104842245A ,2015-08-19

[4]

硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用 [P].

张楷亮 ;

宋志棠 ;

刘波 ;

刘卫丽 ;

封松林 ;

陈邦明 .

中国专利 :CN1616572A ,2005-05-18

[5]

一种用于氧化钒化学机械抛光的纳米抛光液及其应用 [P].

张楷亮 ;

尹立国 ;

王芳 ;

韦晓莹 ;

苗银萍 .

中国专利 :CN102127372A ,2011-07-20

[6]

一种相变材料化学机械抛光设备 [P].

李东平 .

中国专利 :CN204565845U ,2015-08-19

[7]

一种相变材料化学机械抛光方法 [P].

何敖东 ;

宋志棠 ;

刘波 ;

王良咏 ;

刘卫丽 .

中国专利 :CN103497688B ,2014-01-08

[8]

一种铜化学机械抛光液及其应用和化学机械抛光方法 [P].

卞鹏程 ;

崔晓坤 ;

王庆伟 .

中国专利 :CN114958206B ,2024-02-02

[9]

一种相变材料化学机械抛光设备 [P].

李品华 .

中国专利 :CN211136736U ,2020-07-31

[10]

一种相变材料化学机械抛光设备 [P].

熊德博 ;

姜洋 ;

吴凤瑛 ;

周亚 ;

郭梦晓 .

中国专利 :CN214322940U ,2021-10-01

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