硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用

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专利类型
发明
申请号
CN200410066674.8
申请日
2004-09-24
公开(公告)号
CN1616572A
公开(公告)日
2005-05-18
发明(设计)人
张楷亮 宋志棠 刘波 刘卫丽 封松林 陈邦明
申请人
申请人地址
200050上海市长宁区长宁路865号
IPC主分类号
C09G102
IPC分类号
H01L21306
代理机构
上海智信专利代理有限公司
代理人
潘振甦
法律状态
专利申请权、专利权的转移
国省代码
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共 50 条
[1]
硫系相变材料化学机械抛光的无磨料抛光液及其应用 [P]. 
张楷亮 ;
宋志棠 ;
封松林 ;
陈邦明 .
中国专利 :CN100335581C ,2005-06-29
[2]
硫系化合物相变材料氧化铈化学机械抛光液 [P]. 
王良咏 ;
宋志棠 ;
刘波 ;
封松林 .
中国专利 :CN101372606A ,2009-02-25
[3]
化学机械抛光液 [P]. 
王良咏 ;
宋志棠 ;
刘卫丽 ;
刘波 ;
钟旻 ;
何敖东 .
中国专利 :CN102690604A ,2012-09-26
[4]
化学机械抛光液及其应用 [P]. 
赵东旭 .
中国专利 :CN113249035B ,2024-05-24
[5]
化学机械抛光液及其应用 [P]. 
赵东旭 .
中国专利 :CN113249035A ,2021-08-13
[6]
化学机械抛光液 [P]. 
赵铁均 ;
张延风 ;
杜新蕊 .
中国专利 :CN118813141A ,2024-10-22
[7]
化学机械抛光液 [P]. 
赵铁均 ;
张延风 ;
杜新蕊 .
中国专利 :CN118813141B ,2025-04-01
[8]
SiSb基相变材料用化学机械抛光液 [P]. 
王良咏 ;
宋志棠 ;
刘波 ;
封松林 .
中国专利 :CN101586005A ,2009-11-25
[9]
化学机械抛光液及其抛光方法 [P]. 
潘国顺 ;
陈高攀 ;
潘立焱 ;
罗海梅 ;
周艳 ;
罗桂海 ;
张楚红 .
中国专利 :CN115433522A ,2022-12-06
[10]
一种用于硫系相变材料的化学机械抛光方法 [P]. 
张楷亮 ;
张涛峰 ;
王芳 ;
赵金石 ;
曲长庆 .
中国专利 :CN102441819B ,2012-05-09