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半导体器件、图像传感器及其形成方法
被引:0
申请号
:
CN202210178632.1
申请日
:
2022-02-25
公开(公告)号
:
CN114649359A
公开(公告)日
:
2022-06-21
发明(设计)人
:
高敏峰
杨敦年
刘人诚
郭文昌
陈昇照
洪丰基
李昇展
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹
IPC主分类号
:
H01L27146
IPC分类号
:
代理机构
:
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
:
章社杲;李伟
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-07-08
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/146 申请日:20220225
2022-06-21
公开
公开
共 50 条
[1]
CMOS图像传感器及其形成方法、半导体器件形成方法
[P].
罗飞
论文数:
0
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0
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罗飞
;
朱虹
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朱虹
.
中国专利
:CN101645420A
,2010-02-10
[2]
CMOS图像传感器及其形成方法、半导体器件形成方法
[P].
罗飞
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罗飞
;
朱虹
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朱虹
.
中国专利
:CN101645421A
,2010-02-10
[3]
CMOS图像传感器及其形成方法、半导体器件形成方法
[P].
罗飞
论文数:
0
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0
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罗飞
;
朱虹
论文数:
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朱虹
.
中国专利
:CN101645419A
,2010-02-10
[4]
图像传感器、半导体器件以及其形成方法
[P].
曾志裕
论文数:
0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
曾志裕
;
陈明贤
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈明贤
.
中国专利
:CN113113432B
,2025-04-25
[5]
图像传感器、半导体器件以及其形成方法
[P].
曾志裕
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曾志裕
;
陈明贤
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陈明贤
.
中国专利
:CN113113432A
,2021-07-13
[6]
半导体器件及其形成方法、图像传感器
[P].
杨帆
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杨帆
;
胡胜
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胡胜
;
赵宇航
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赵宇航
;
谢岩
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谢岩
;
褚海波
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褚海波
.
中国专利
:CN112349738A
,2021-02-09
[7]
半导体器件及其形成方法、图像传感器
[P].
吴聪
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吴聪
;
谢岩
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谢岩
;
刘选军
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刘选军
;
杨帆
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杨帆
;
李侃
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李侃
;
赵宇航
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赵宇航
;
褚海波
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褚海波
.
中国专利
:CN112349737A
,2021-02-09
[8]
图像传感器、半导体器件及其形成方法
[P].
郑允玮
论文数:
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
郑允玮
;
贾钧伟
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
贾钧伟
;
周俊豪
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
周俊豪
;
李国政
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李国政
.
中国专利
:CN117457695A
,2024-01-26
[9]
半导体器件及其形成方法、图像传感器
[P].
吴聪
论文数:
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
吴聪
;
谢岩
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
谢岩
;
刘选军
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
刘选军
;
杨帆
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
杨帆
;
李侃
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
李侃
;
赵宇航
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
赵宇航
;
褚海波
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
褚海波
.
中国专利
:CN112349737B
,2024-03-22
[10]
半导体器件及其形成方法、图像传感器
[P].
胡胜
论文数:
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胡胜
;
杨帆
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杨帆
;
赵宇航
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赵宇航
;
吴聪
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吴聪
;
李侃
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0
李侃
.
中国专利
:CN112349739A
,2021-02-09
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