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图像传感器、半导体器件以及其形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010930430.9
申请日
:
2020-09-07
公开(公告)号
:
CN113113432B
公开(公告)日
:
2025-04-25
发明(设计)人
:
曾志裕
陈明贤
申请人
:
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址
:
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号
IPC主分类号
:
H10F39/12
IPC分类号
:
H10F39/18
代理机构
:
南京正联知识产权代理有限公司 32243
代理人
:
王素琴
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-04-25
授权
授权
2025-06-10
专利权期限的补偿
专利权期限补偿IPC(主分类):H10F 39/12申请日:20200907授权公告日:20250425原专利权期满终止日:20400907现专利权期满终止日:20410425
共 50 条
[1]
图像传感器、半导体器件以及其形成方法
[P].
曾志裕
论文数:
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曾志裕
;
陈明贤
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陈明贤
.
中国专利
:CN113113432A
,2021-07-13
[2]
半导体器件、图像传感器及其形成方法
[P].
高敏峰
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高敏峰
;
杨敦年
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杨敦年
;
刘人诚
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刘人诚
;
郭文昌
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郭文昌
;
陈昇照
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陈昇照
;
洪丰基
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洪丰基
;
李昇展
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李昇展
.
中国专利
:CN114649359A
,2022-06-21
[3]
CMOS图像传感器及其形成方法、半导体器件形成方法
[P].
罗飞
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罗飞
;
朱虹
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朱虹
.
中国专利
:CN101645420A
,2010-02-10
[4]
CMOS图像传感器及其形成方法、半导体器件形成方法
[P].
罗飞
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罗飞
;
朱虹
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朱虹
.
中国专利
:CN101645421A
,2010-02-10
[5]
CMOS图像传感器及其形成方法、半导体器件形成方法
[P].
罗飞
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罗飞
;
朱虹
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朱虹
.
中国专利
:CN101645419A
,2010-02-10
[6]
半导体器件及其形成方法、图像传感器
[P].
杨帆
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杨帆
;
胡胜
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胡胜
;
赵宇航
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赵宇航
;
谢岩
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谢岩
;
褚海波
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褚海波
.
中国专利
:CN112349738A
,2021-02-09
[7]
半导体器件及其形成方法、图像传感器
[P].
吴聪
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吴聪
;
谢岩
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谢岩
;
刘选军
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刘选军
;
杨帆
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杨帆
;
李侃
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李侃
;
赵宇航
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赵宇航
;
褚海波
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褚海波
.
中国专利
:CN112349737A
,2021-02-09
[8]
图像传感器、半导体器件及其形成方法
[P].
郑允玮
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
郑允玮
;
贾钧伟
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
贾钧伟
;
周俊豪
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
周俊豪
;
李国政
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李国政
.
中国专利
:CN117457695A
,2024-01-26
[9]
半导体器件及其形成方法、图像传感器
[P].
吴聪
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
吴聪
;
谢岩
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
谢岩
;
刘选军
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
刘选军
;
杨帆
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
杨帆
;
李侃
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武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
李侃
;
赵宇航
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
赵宇航
;
褚海波
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
褚海波
.
中国专利
:CN112349737B
,2024-03-22
[10]
半导体器件及其形成方法、图像传感器
[P].
胡胜
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胡胜
;
杨帆
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杨帆
;
赵宇航
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赵宇航
;
吴聪
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吴聪
;
李侃
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李侃
.
中国专利
:CN112349739A
,2021-02-09
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