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用于离子注入系统的离子束入射角度检测器
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200480009348.1
申请日
:
2004-03-31
公开(公告)号
:
CN1771579A
公开(公告)日
:
2006-05-10
发明(设计)人
:
R·里斯
M·格拉夫
T·帕里尔
B·弗里尔
申请人
:
申请人地址
:
美国马萨诸塞州
IPC主分类号
:
H01J37317
IPC分类号
:
H01J2724
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司
代理人
:
廖凌玲
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2006-07-05
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-05-27
授权
授权
2006-05-10
公开
公开
共 50 条
[1]
用于离子注入系统的离子束角度测量系统和方法
[P].
布赖恩·弗瑞尔
论文数:
0
引用数:
0
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0
布赖恩·弗瑞尔
;
亚历山大·普瑞尔
论文数:
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亚历山大·普瑞尔
.
中国专利
:CN101361160A
,2009-02-04
[2]
离子注入机中的离子束
[P].
C·伯吉斯
论文数:
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0
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0
C·伯吉斯
;
M·基恩
论文数:
0
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0
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0
M·基恩
.
中国专利
:CN101086945A
,2007-12-12
[3]
静电扫描器、离子注入系统以及用于处理离子束的方法
[P].
法兰克·辛克莱
论文数:
0
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法兰克·辛克莱
;
约瑟·C·欧尔森
论文数:
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约瑟·C·欧尔森
;
艾德沃·W·比尔
论文数:
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艾德沃·W·比尔
;
大尼尔·菲德门
论文数:
0
引用数:
0
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大尼尔·菲德门
.
中国专利
:CN105340052B
,2016-02-17
[4]
一种用带状离子束注入工件的离子注入系统
[P].
陈炯
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
芯嵛半导体(上海)有限公司
芯嵛半导体(上海)有限公司
陈炯
.
中国专利
:CN221747156U
,2024-09-20
[5]
离子注入角度测量装置及离子注入系统
[P].
王锦喆
论文数:
0
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0
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0
王锦喆
.
中国专利
:CN204230207U
,2015-03-25
[6]
用于改进离子注入均匀性的离子束扫描系统和方法
[P].
B·范德贝里
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B·范德贝里
;
A·雷
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A·雷
;
K·温策尔
论文数:
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K·温策尔
.
中国专利
:CN101002294A
,2007-07-18
[7]
采用用于离子注入系统的变角度狭槽阵列的离子束角度测量系统及方法
[P].
布莱恩·弗瑞尔
论文数:
0
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0
布莱恩·弗瑞尔
.
中国专利
:CN101421815A
,2009-04-29
[8]
扫描离子注入系统中原位离子束电流的监测与控制
[P].
阿尔弗雷德·哈林
论文数:
0
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0
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阿尔弗雷德·哈林
.
中国专利
:CN109643628A
,2019-04-16
[9]
单离子束远程计数检测器
[P].
詹福如
论文数:
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詹福如
;
齐学红
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0
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齐学红
;
陈连运
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陈连运
;
李军
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李军
;
吴李君
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吴李君
;
余增亮
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余增亮
.
中国专利
:CN201021941Y
,2008-02-13
[10]
离子注入机内的射束角度调节
[P].
宝·梵德伯格
论文数:
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宝·梵德伯格
;
吴向阳
论文数:
0
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0
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0
吴向阳
.
中国专利
:CN101490791A
,2009-07-22
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