带表面活化的连续真空溅镀装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201120246094.2

申请日：

2011-07-13

公开(公告)号：

CN202181343U

公开(公告)日：

2012-04-04

发明(设计)人：

戴明光

申请人：

申请人地址：

215101 江苏省苏州市木渎镇230省道888号7幢

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C23C1456

代理机构：

苏州创元专利商标事务所有限公司 32103

代理人：

范晴

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-07-09	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20110713 授权公告日:20120404 终止日期:20180713
2013-04-10	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101564411062 IPC(主分类):C23C 14/34 专利号:ZL2011202460942 变更事项:专利权人变更前权利人:戴明光变更后权利人:戴明光变更事项:地址变更前权利人:215101 江苏省苏州市木渎镇230省道888号7幢变更后权利人:215101 江苏省苏州市木渎镇230省道888号7幢变更事项:专利权人变更前权利人:苏州爱迪尔镀膜科技有限公司变更后权利人:苏州融睿纳米复材科技有限公司登记生效日:20130321
2012-04-04	授权	授权

共 50 条

[1]

连续式真空溅镀装置 [P].

黄泳钊 ;

郑博仁 .

中国专利 :CN201501926U ,2010-06-09

[2]

真空溅镀装置 [P].

青仓勇 ;

山西齐 ;

大西阳一 ;

池田种次郎 .

中国专利 :CN1109512A ,1995-10-04

[3]

一种用于真空溅镀的溅镀靶 [P].

郑志铭 .

中国专利 :CN202705455U ,2013-01-30

[4]

真空溅镀偏压传导装置及真空溅镀设备 [P].

吴佳颖 .

中国专利 :CN102102180A ,2011-06-22

[5]

真空溅镀设备的传动装置 [P].

洪婉玲 ;

郭勋聪 .

中国专利 :CN201280592Y ,2009-07-29

[6]

一种芯片载带真空溅镀用连续分卷机构 [P].

蔡水河 .

中国专利 :CN210480318U ,2020-05-08

[7]

真空溅镀设备的进气装置 [P].

黄泳钊 ;

郑博仁 .

中国专利 :CN201172688Y ,2008-12-31

[8]

真空溅镀机的阴极构造 [P].

刘辛 .

中国专利 :CN201301337Y ,2009-09-02

[9]

真空溅镀系统 [P].

郭金柱 ;

郑博仁 ;

黄泳钊 .

中国专利 :CN211227316U ,2020-08-11

[10]

真空溅镀系统的阴极装置 [P].

方振籛 ;

郭金柱 ;

郑博仁 ;

黄泳钊 .

中国专利 :CN208632635U ,2019-03-22

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