一种用于真空溅镀的溅镀靶

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201220296912.4

申请日：

2012-06-25

公开(公告)号：

CN202705455U

公开(公告)日：

2013-01-30

发明(设计)人：

郑志铭

申请人：

申请人地址：

313300 浙江省湖州市安吉县递铺镇阳光工业二区吉二路浙江柏腾光电科技有限公司

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

代理机构：

杭州丰禾专利事务所有限公司 33214

代理人：

王鹏举

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-12	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20120625 授权公告日:20130130
2013-01-30	授权	授权

共 50 条

[1]

真空离子溅镀靶材 [P].

戴明光 ;

林政乾 .

中国专利 :CN2786147Y ,2006-06-07

[2]

一种用于真空溅镀的靶材 [P].

郑志铭 .

中国专利 :CN202705457U ,2013-01-30

[3]

用于真空溅镀的平面Sn靶材 [P].

朱振华 ;

庄世雄 .

中国专利 :CN202380073U ,2012-08-15

[4]

真空溅镀装置 [P].

青仓勇 ;

山西齐 ;

大西阳一 ;

池田种次郎 .

中国专利 :CN1109512A ,1995-10-04

[5]

真空溅镀系统 [P].

郭金柱 ;

郑博仁 ;

黄泳钊 .

中国专利 :CN211227316U ,2020-08-11

[6]

溅镀靶材 [P].

黄民育 ;

张廖万民 ;

陈志豪 ;

韩中明 .

中国专利 :CN212505048U ,2021-02-09

[7]

真空溅镀偏压传导装置及真空溅镀设备 [P].

吴佳颖 .

中国专利 :CN102102180A ,2011-06-22

[8]

真空溅镀设备的旋转靶装置 [P].

黄泳钊 ;

郑博仁 ;

许建志 .

中国专利 :CN101956169B ,2011-01-26

[9]

一种溅镀机及其溅镀工艺 [P].

林行 ;

葛健国 ;

吕育仁 ;

范小荣 ;

朱育民 ;

庄胜智 .

中国专利 :CN110819947A ,2020-02-21

[10]

真空溅镀设备的移动靶装置 [P].

黄泳钊 ;

郑博仁 ;

曾政富 ;

廖晨舒 .

中国专利 :CN102094176A ,2011-06-15

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