一种用于真空溅镀的靶材

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201220296909.2

申请日：

2012-06-25

公开(公告)号：

CN202705457U

公开(公告)日：

2013-01-30

发明(设计)人：

郑志铭

申请人：

申请人地址：

313300 浙江省湖州市安吉县递铺镇阳光工业二区吉二路浙江柏腾光电科技有限公司

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1414

代理机构：

杭州丰禾专利事务所有限公司 33214

代理人：

王鹏举

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-12-24	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 14/35 变更事项:专利权人变更前:浙江柏腾光电科技有限公司变更后:浙江骏昇光电科技有限公司变更事项:地址变更前:313300 浙江省湖州市安吉县递铺镇阳光工业二区吉二路浙江柏腾光电科技有限公司变更后:313300 浙江省湖州市安吉县递铺镇阳光工业园区
2013-01-30	授权	授权
2022-07-12	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20120625 授权公告日:20130130

共 50 条

[1]

一种用于真空溅镀的溅镀靶 [P].

郑志铭 .

中国专利 :CN202705455U ,2013-01-30

[2]

真空离子溅镀靶材 [P].

戴明光 ;

林政乾 .

中国专利 :CN2786147Y ,2006-06-07

[3]

用于真空溅镀的平面Sn靶材 [P].

朱振华 ;

庄世雄 .

中国专利 :CN202380073U ,2012-08-15

[4]

溅镀靶材 [P].

黄民育 ;

张廖万民 ;

陈志豪 ;

韩中明 .

中国专利 :CN212505048U ,2021-02-09

[5]

一种具有多元靶材的溅镀靶 [P].

彭光中 .

中国专利 :CN101372737A ,2009-02-25

[6]

一种真空溅镀靶材的冷却装置 [P].

丛峰 .

中国专利 :CN207331048U ,2018-05-08

[7]

溅镀靶材组件 [P].

细川昭弘 ;

J·M·怀特 ;

任东吉 .

中国专利 :CN205275690U ,2016-06-01

[8]

真空溅镀设备的旋转靶装置 [P].

黄泳钊 ;

郑博仁 ;

许建志 .

中国专利 :CN101956169B ,2011-01-26

[9]

溅镀靶材的冷却装置 [P].

姚朝祯 .

中国专利 :CN201268720Y ,2009-07-08

[10]

溅镀靶材检测机构 [P].

林胜国 .

中国专利 :CN202383109U ,2012-08-15

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