一种具有多元靶材的溅镀靶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710142083.8

申请日：

2007-08-22

公开(公告)号：

CN101372737A

公开(公告)日：

2009-02-25

发明(设计)人：

彭光中

申请人：

申请人地址：

台湾省台南县安定乡中沙村沙仑39－5号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1406

代理机构：

北京申翔知识产权代理有限公司

代理人：

周春发

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-01-05	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101058494183 IPC(主分类):C23C 14/35 专利申请号:2007101420838 公开日:20090225
2009-04-22	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-02-25	公开	公开

共 50 条

[1]

真空离子溅镀靶材 [P].

戴明光 ;

林政乾 .

中国专利 :CN2786147Y ,2006-06-07

[2]

一种用于真空溅镀的靶材 [P].

郑志铭 .

中国专利 :CN202705457U ,2013-01-30

[3]

一种用于真空溅镀的溅镀靶 [P].

郑志铭 .

中国专利 :CN202705455U ,2013-01-30

[4]

用于真空溅镀的平面Sn靶材 [P].

朱振华 ;

庄世雄 .

中国专利 :CN202380073U ,2012-08-15

[5]

真空溅镀设备的旋转靶装置 [P].

黄泳钊 ;

郑博仁 ;

许建志 .

中国专利 :CN101956169B ,2011-01-26

[6]

真空溅镀设备的移动靶装置 [P].

黄泳钊 ;

郑博仁 ;

曾政富 ;

廖晨舒 .

中国专利 :CN102094176A ,2011-06-15

[7]

靶材以及该靶材所制造的薄膜 [P].

李仲仁 ;

赵勤孝 ;

毛庆中 .

中国专利 :CN101245443B ,2008-08-20

[8]

带靶材的靶座 [P].

进藤孝明 ;

中村肇 ;

石野耕司 ;

宇佐美达巳 ;

松田麻也子 .

中国专利 :CN300837578D ,2008-10-08

[9]

带靶材的靶座 [P].

进藤孝明 ;

中村肇 ;

石野耕司 ;

宇佐美达巳 ;

松田麻也子 .

中国专利 :CN300841707D ,2008-10-22

[10]

带靶材的靶座 [P].

进藤孝明 ;

中村肇 ;

石野耕司 ;

宇佐美达巳 ;

松田麻也子 .

中国专利 :CN300909192D ,2009-04-15

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