真空溅镀设备的移动靶装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910258114.5

申请日：

2009-12-10

公开(公告)号：

CN102094176A

公开(公告)日：

2011-06-15

发明(设计)人：

黄泳钊郑博仁曾政富廖晨舒

申请人：

申请人地址：

中国台湾台南县

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C23C1456

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;王璐

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-08-10	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101096108116 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2009102581145 申请日:20091210
2013-04-10	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101565406867 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2009102581145 申请公布日:20110615
2011-06-15	公开	公开

共 50 条

[1]

真空溅镀设备的旋转靶装置 [P].

黄泳钊 ;

郑博仁 ;

许建志 .

中国专利 :CN101956169B ,2011-01-26

[2]

一种用于真空溅镀的溅镀靶 [P].

郑志铭 .

中国专利 :CN202705455U ,2013-01-30

[3]

真空离子溅镀靶材 [P].

戴明光 ;

林政乾 .

中国专利 :CN2786147Y ,2006-06-07

[4]

真空溅镀偏压传导装置及真空溅镀设备 [P].

吴佳颖 .

中国专利 :CN102102180A ,2011-06-22

[5]

真空溅镀装置 [P].

青仓勇 ;

山西齐 ;

大西阳一 ;

池田种次郎 .

中国专利 :CN1109512A ,1995-10-04

[6]

用于真空溅镀的平面Sn靶材 [P].

朱振华 ;

庄世雄 .

中国专利 :CN202380073U ,2012-08-15

[7]

真空溅镀设备的传动装置 [P].

洪婉玲 ;

郭勋聪 .

中国专利 :CN201280592Y ,2009-07-29

[8]

真空溅镀设备的感测装置 [P].

黄泳钊 ;

郑博仁 ;

曾政富 ;

许三益 .

中国专利 :CN201567368U ,2010-09-01

[9]

真空溅镀设备的进气装置 [P].

王仲培 ;

吴佳颖 .

中国专利 :CN102002675A ,2011-04-06

[10]

真空溅镀设备的进气装置 [P].

黄泳钊 ;

郑博仁 .

中国专利 :CN201172688Y ,2008-12-31

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