真空溅镀设备的旋转靶装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910160063.2

申请日：

2009-07-20

公开(公告)号：

CN101956169B

公开(公告)日：

2011-01-26

发明(设计)人：

黄泳钊郑博仁许建志

申请人：

申请人地址：

中国台湾台南县新市乡环东路二段23号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

北京邦信阳专利商标代理有限公司 11012

代理人：

王昭林;崔华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-02-01	授权	授权
2011-01-26	公开	公开
2011-03-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101058488092 IPC(主分类):C23C 14/35 专利申请号:2009101600632 申请日:20090720
2016-09-07	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101678538222 IPC(主分类):C23C 14/35 专利号:ZL2009101600632 申请日:20090720 授权公告日:20120201 终止日期:20150720

共 50 条

[1]

真空溅镀设备的移动靶装置 [P].

黄泳钊 ;

郑博仁 ;

曾政富 ;

廖晨舒 .

中国专利 :CN102094176A ,2011-06-15

[2]

一种用于真空溅镀的溅镀靶 [P].

郑志铭 .

中国专利 :CN202705455U ,2013-01-30

[3]

真空离子溅镀靶材 [P].

戴明光 ;

林政乾 .

中国专利 :CN2786147Y ,2006-06-07

[4]

真空溅镀偏压传导装置及真空溅镀设备 [P].

吴佳颖 .

中国专利 :CN102102180A ,2011-06-22

[5]

真空溅镀装置 [P].

青仓勇 ;

山西齐 ;

大西阳一 ;

池田种次郎 .

中国专利 :CN1109512A ,1995-10-04

[6]

溅镀旋转靶磁棒总成 [P].

霍凯 ;

陈宥廷 .

中国专利 :CN206418193U ,2017-08-18

[7]

用于真空溅镀的平面Sn靶材 [P].

朱振华 ;

庄世雄 .

中国专利 :CN202380073U ,2012-08-15

[8]

真空溅镀设备的传动装置 [P].

洪婉玲 ;

郭勋聪 .

中国专利 :CN201280592Y ,2009-07-29

[9]

真空溅镀设备的感测装置 [P].

黄泳钊 ;

郑博仁 ;

曾政富 ;

许三益 .

中国专利 :CN201567368U ,2010-09-01

[10]

真空溅镀设备的进气装置 [P].

王仲培 ;

吴佳颖 .

中国专利 :CN102002675A ,2011-04-06

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