用于真空溅镀的平面Sn靶材

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201120551643.7
申请日
2011-12-26
公开(公告)号
CN202380073U
公开(公告)日
2012-08-15
发明(设计)人
朱振华 庄世雄
申请人
申请人地址
215300 江苏省苏州市昆山市玉山镇吴淞江工业园晨丰路南侧
IPC主分类号
C23C1434
IPC分类号
C23C1408
代理机构
南京纵横知识产权代理有限公司 32224
代理人
董建林
法律状态
专利权的终止
国省代码
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共 50 条
[1]
真空离子溅镀靶材 [P]. 
戴明光 ;
林政乾 .
中国专利 :CN2786147Y ,2006-06-07
[2]
一种用于真空溅镀的靶材 [P]. 
郑志铭 .
中国专利 :CN202705457U ,2013-01-30
[3]
一种用于真空溅镀的溅镀靶 [P]. 
郑志铭 .
中国专利 :CN202705455U ,2013-01-30
[4]
溅镀靶材 [P]. 
黄民育 ;
张廖万民 ;
陈志豪 ;
韩中明 .
中国专利 :CN212505048U ,2021-02-09
[5]
溅镀靶材组件 [P]. 
细川昭弘 ;
J·M·怀特 ;
任东吉 .
中国专利 :CN205275690U ,2016-06-01
[6]
真空溅镀设备的旋转靶装置 [P]. 
黄泳钊 ;
郑博仁 ;
许建志 .
中国专利 :CN101956169B ,2011-01-26
[7]
溅镀靶材的冷却装置 [P]. 
姚朝祯 .
中国专利 :CN201268720Y ,2009-07-08
[8]
溅镀靶材检测机构 [P]. 
林胜国 .
中国专利 :CN202383109U ,2012-08-15
[9]
一种具有多元靶材的溅镀靶 [P]. 
彭光中 .
中国专利 :CN101372737A ,2009-02-25
[10]
真空溅镀设备的移动靶装置 [P]. 
黄泳钊 ;
郑博仁 ;
曾政富 ;
廖晨舒 .
中国专利 :CN102094176A ,2011-06-15