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基板处理装置及基板处理方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201780082037.5
申请日：
2017-12-22
公开(公告)号：
CN110140198A
公开(公告)日：
2019-08-16
发明(设计)人：
西村优大 小林健司 根来世
申请人：
申请人地址：
日本京都府
IPC主分类号：
H01L21304
IPC分类号：
B08B302
代理机构：
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人：
宋晓宝;向勇
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2019-08-16 公开 公开
2019-09-10 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/304 申请日:20171222
共 50 条
[1]
基板处理方法、基板处理液及基板处理装置 [P]. 
佐佐木悠太 .
中国专利 :CN110800087A ,2020-02-14
[2]
基板处理方法、基板处理液及基板处理装置 [P]. 
佐佐木悠太 .
日本专利 :CN110800087B ,2024-03-19
[3]
基板处理装置、基板处理方法及基板处理程序 [P]. 
火口友美 ;
鳅场真树 ;
胡铃达 ;
岩川裕 ;
藤原直树 ;
吉原直彦 .
日本专利 :CN119542182A ,2025-02-28
[4]
基板处理方法、基板处理装置及基板处理液 [P]. 
塙洋祐 ;
春本晶子 ;
上田大 .
日本专利 :CN119585848A ,2025-03-07
[5]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
今冈裕一 ;
西部幸伸 .
中国专利 :CN106340473B ,2017-01-18
[6]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
杉冈真治 ;
木村隆一 ;
久保靖 .
中国专利 :CN111263975A ,2020-06-09
[7]
基板处理方法及基板处理装置 [P]. 
西田崇之 ;
石井淳一 .
中国专利 :CN111095494A ,2020-05-01
[8]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
山口直子 ;
樋口鲇美 ;
藤田惠理 ;
岩畑翔太 .
中国专利 :CN113544821A ,2021-10-22
[9]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
藤原邦夫 ;
吉田顺一 .
中国专利 :CN101546701A ,2009-09-30
[10]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
三浦丈苗 .
中国专利 :CN109716489B ,2019-05-03
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