一种沟槽刻蚀方法及刻蚀装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310737928.3

申请日：

2013-12-29

公开(公告)号：

CN104752152B

公开(公告)日：

2015-07-01

发明(设计)人：

符雅丽

申请人：

申请人地址：

100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

彭瑞欣;张天舒

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-07-06	授权	授权
2015-07-29	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101618648320 IPC(主分类):H01L 21/02 专利申请号:2013107379283 申请日:20131229
2015-07-01	公开	公开
2017-10-10	著录事项变更	著录事项变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101760386909 IPC(主分类):H01L 21/02 专利申请号:2013107379283 变更事项:申请人变更前:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司变更后:北京北方华创微电子装备有限公司变更事项:地址变更前:100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号变更后:100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

共 50 条

[1]

沟槽刻蚀方法 [P].

杨光 ;

何忠义 ;

张建坤 ;

蒋中伟 ;

王京 ;

周清军 .

中国专利 :CN115223862B ,2025-03-14

[2]

沟槽刻蚀方法 [P].

赵月梅 ;

曾伟雄 ;

孙武 ;

徐若男 .

中国专利 :CN112086351A ,2020-12-15

[3]

沟槽刻蚀方法 [P].

徐若男 ;

孙武 ;

赵月梅 ;

韩宝东 .

中国专利 :CN111986992A ,2020-11-24

[4]

沟槽刻蚀的方法 [P].

冯大贵 ;

欧少敏 ;

吴长明 .

中国专利 :CN112164647B ,2021-01-01

[5]

沟槽的刻蚀方法 [P].

殷敏 ;

谭理 ;

周策 ;

王玉新 ;

丁佳 ;

王学静 ;

刘巍 ;

仉志成 .

中国专利 :CN119108276A ,2024-12-10

[6]

一种深沟槽刻蚀方法 [P].

李明 ;

刁宇飞 ;

姚雪霞 .

中国专利 :CN111584357B ,2024-03-15

[7]

一种深沟槽刻蚀方法 [P].

陈煜 ;

朱焱均 ;

王尧林 ;

燕强 .

中国专利 :CN119993834A ,2025-05-13

[8]

一种深沟槽刻蚀方法 [P].

李明 ;

刁宇飞 ;

姚雪霞 .

中国专利 :CN111584357A ,2020-08-25

[9]

一种深沟槽刻蚀方法 [P].

陈煜 ;

朱焱均 ;

王尧林 ;

燕强 .

中国专利 :CN119993834B ,2025-06-27

[10]

一种基板刻蚀沟槽装置 [P].

于彬 ;

李昂 ;

唐光明 .

中国专利 :CN113828934A ,2021-12-24

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