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用于离子注入剂量和均匀性控制的离子束测量系统及方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200580034797.6
申请日：
2005-08-08
公开(公告)号：
CN101040365A
公开(公告)日：
2007-09-19
发明(设计)人：
K·佩特里
J·费拉拉
K·贝克
申请人：
申请人地址：
美国马萨诸塞州
IPC主分类号：
H01J37317
IPC分类号：
代理机构：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人：
张亚宁;王忠忠
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2007-09-19 | 公开 | 公开 |
| 2007-11-14 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 |
| 2010-03-24 | 发明专利申请公布后的视为撤回 | 发明专利申请公布后的视为撤回 |