电解铜镀敷用添加剂和电解铜镀浴

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280015856.5

申请日：

2012-03-23

公开(公告)号：

CN103443334B

公开(公告)日：

2013-12-11

发明(设计)人：

内田广记杉浦启规

申请人：

申请人地址：

日本大阪府大阪市

IPC主分类号：

C25D338

IPC分类号：

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

蔡晓菡;孟慧岚

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-02-06	授权	授权
2013-12-11	公开	公开
2014-03-19	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101579335785 IPC(主分类):C25D 3/38 专利申请号:2012800158565 申请日:20120323

共 50 条

[1]

电解铜镀液和电解铜镀覆方法 [P].

齐藤睦子 ;

酒井诚 ;

水野阳子 ;

森永俊幸 ;

林慎二朗 .

中国专利 :CN103774188B ,2014-05-07

[2]

电解铜镀敷溶液 [P].

美津浓洋子 ;

M·酒井 ;

M·佐藤 ;

T·森永 ;

S·林 .

中国专利 :CN105734621B ,2016-07-06

[3]

电解铜镀液以及电镀铜方法 [P].

齐藤睦子 ;

酒井诚 ;

水野阳子 ;

森永俊幸 ;

林慎二朗 .

中国专利 :CN103451691A ,2013-12-18

[4]

电解铜箔添加剂 [P].

陈伟 ;

冯再 .

中国专利 :CN113046797A ,2021-06-29

[5]

电解铜镀液组合物及其用法 [P].

海科·布鲁纳 ;

迪尔克·罗德 ;

马努埃尔·珀尔勒斯 ;

斯文·吕克布罗德 ;

德什斯瑞·达尔文 ;

尚德拉·尼曼 ;

格哈德·施泰因贝格尔 .

中国专利 :CN107771227B ,2018-03-06

[6]

一种电解铜箔添加剂及电解铜表面处理工艺 [P].

唐云志 ;

刘耀 ;

陆冰沪 ;

李大双 ;

樊小伟 ;

师慧娟 ;

谭育慧 .

中国专利 :CN110093640A ,2019-08-06

[7]

高抗拉强度电解铜箔添加剂、电解铜箔及制备方法 [P].

崔凤皎 ;

全南旭 ;

金钟权 ;

全德镐 .

中国专利 :CN118241268A ,2024-06-25

[8]

一种电解铜箔用添加剂、电解铜箔生产工艺和电解铜箔 [P].

周启伦 ;

郑惠军 ;

朱各桂 ;

万新领 ;

黄国平 ;

邓烨 ;

杨孝坤 ;

高元亨 ;

吴燕林 .

中国专利 :CN102181889A ,2011-09-14

[9]

高纯度铜电解精炼用添加剂、高纯度铜制法及高纯度电解铜 [P].

樽谷圭荣 ;

久保田贤治 ;

中矢清隆 .

中国专利 :CN106555208A ,2017-04-05

[10]

电解铜干燥烘箱 [P].

王华志 ;

周旺 ;

刘莺 .

中国专利 :CN217900385U ,2022-11-25

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