一种IC级重掺砷硅抛光片表面粗糙度的控制方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310025606.6

申请日：

2013-01-22

公开(公告)号：

CN103042463A

公开(公告)日：

2013-04-17

发明(设计)人：

袁泽山郝美功詹玉峰

申请人：

申请人地址：

324300 浙江省衢州市开化县城关镇万向路5号万向硅峰

IPC主分类号：

B24B37005

IPC分类号：

代理机构：

杭州之江专利事务所(普通合伙) 33216

代理人：

林蜀

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-05-15	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101457133415 IPC(主分类):B24B 37/005 专利申请号:2013100256066 申请日:20130122
2015-08-12	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101719110959 IPC(主分类):B24B 37/005 专利申请号:2013100256066 申请公布日:20130417
2013-04-17	公开	公开

共 50 条

[1]

一种降低硅抛光片表面粗糙度的加工方法 [P].

史训达 .

中国专利 :CN108242396B ,2018-07-03

[2]

一种改善硅抛光片表面粗糙度的抛光方法 [P].

路一辰 ;

李俊峰 ;

潘紫龙 ;

王玥 ;

王新 .

中国专利 :CN112975578B ,2021-06-18

[3]

一种低粗糙度硅抛光片的加工方法 [P].

李继光 ;

顾凯峰 .

中国专利 :CN101352829B ,2009-01-28

[4]

一种降低8英寸硅抛光片表面粗糙度的抛光工艺 [P].

石明 ;

王广勇 ;

吴镐硕 ;

刘秒 ;

吕莹 ;

徐荣清 .

中国专利 :CN109500663A ,2019-03-22

[5]

硅抛光片的微粗糙度与氧化膜厚精确控制方法 [P].

王鸣 .

中国专利 :CN118571747A ,2024-08-30

[6]

一种基于重掺硼低粗糙度抛光片的加工方法 [P].

陈凯 .

中国专利 :CN119772666A ,2025-04-08

[7]

非接触式扫描抛光片表面粗糙度的检测设备和检测方法 [P].

吕莹 ;

崔宝柱 ;

罗翀 ;

张俊生 ;

孙晨光 .

中国专利 :CN104332426A ,2015-02-04

[8]

一种改善硅片表面粗糙度的抛光工艺 [P].

卞梁 ;

潘连胜 ;

何翠翠 .

中国专利 :CN114055256A ,2022-02-18

[9]

一种改善表面颗粒的重掺砷单晶硅晶圆抛光片的抛光工艺 [P].

孙晨光 ;

曲涛 ;

垢建秋 ;

韩贵祥 ;

张俊生 .

中国专利 :CN103009234A ,2013-04-03

[10]

测量硅抛光片表面铜含量的方法 [P].

郭体强 .

中国专利 :CN112798543A ,2021-05-14

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