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半导体器件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200680028373.3
申请日
:
2006-07-26
公开(公告)号
:
CN101233604A
公开(公告)日
:
2008-07-30
发明(设计)人
:
约翰内斯·J·T·M·东科尔斯
韦伯·D·范诺尔特
弗朗索瓦·纳耶
申请人
:
申请人地址
:
荷兰艾恩德霍芬
IPC主分类号
:
H01L21331
IPC分类号
:
H01L2910
H01L29732
H01L29737
代理机构
:
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人
:
陈源;张天舒
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2008-09-24
实质审查的生效
实质审查的生效
2011-10-05
授权
授权
2008-07-30
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法
[P].
尹汝祖
论文数:
0
引用数:
0
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0
尹汝祖
.
中国专利
:CN101465350A
,2009-06-24
[2]
半导体器件及其制造方法
[P].
平井健裕
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平井健裕
;
田中光男
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田中光男
;
堀敦
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堀敦
;
下村浩
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下村浩
;
堀川良彦
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堀川良彦
.
中国专利
:CN1093493A
,1994-10-12
[3]
半导体器件及其制造方法
[P].
朴圣根
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朴圣根
.
中国专利
:CN103247623B
,2013-08-14
[4]
半导体器件及其制造方法
[P].
菲利浦·默尼耶-贝拉德
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菲利浦·默尼耶-贝拉德
;
约翰内斯·J·T·M·唐克斯
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约翰内斯·J·T·M·唐克斯
;
埃尔温·海鲁
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埃尔温·海鲁
.
中国专利
:CN102017130A
,2011-04-13
[5]
半导体器件及其制造方法
[P].
小林纯一郎
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小林纯一郎
.
中国专利
:CN1540765A
,2004-10-27
[6]
半导体器件及其制造方法
[P].
P·阿加瓦尔
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P·阿加瓦尔
;
J·W·斯罗特布姆
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J·W·斯罗特布姆
;
G·多恩博斯
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G·多恩博斯
.
中国专利
:CN1957461A
,2007-05-02
[7]
半导体器件及其制造方法
[P].
佐藤文彦
论文数:
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佐藤文彦
.
中国专利
:CN1099129C
,1998-06-17
[8]
半导体器件及其制造方法
[P].
菲利浦·默尼耶-贝拉德
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菲利浦·默尼耶-贝拉德
;
马克·C·J·C·M·克拉默
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马克·C·J·C·M·克拉默
;
约翰内斯·J·T·M·唐克斯
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约翰内斯·J·T·M·唐克斯
;
纪尧姆·伯卡迪
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纪尧姆·伯卡迪
.
中国专利
:CN101960584A
,2011-01-26
[9]
半导体器件及其制造方法
[P].
李孟烈
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0
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李孟烈
.
中国专利
:CN102593119B
,2012-07-18
[10]
半导体器件及其制造方法
[P].
森本卓夫
论文数:
0
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森本卓夫
.
中国专利
:CN102232248B
,2011-11-02
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