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多个工艺腔室压力的控制方法及半导体工艺设备
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202110411361.5
申请日：
2021-04-16
公开(公告)号：
CN113515095A
公开(公告)日：
2021-10-19
发明(设计)人：
王松涛
申请人：
申请人地址：
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号：
G05B19418
IPC分类号：
H01L2167
代理机构：
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人：
彭瑞欣;王婷
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-11-05 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G05B 19/418 申请日:20210416 |
| 2021-10-19 | 公开 | 公开 |