一种二次曝光的工艺方法

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专利类型
发明
申请号
CN202010346287.9
申请日
2020-04-27
公开(公告)号
CN111538214A
公开(公告)日
2020-08-14
发明(设计)人
史建新
申请人
申请人地址
215000 江苏省苏州市工业园区唯亭葑亭大道502号
IPC主分类号
G03F720
IPC分类号
代理机构
苏州言思嘉信专利代理事务所(普通合伙) 32385
代理人
邵永永
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
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