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一种二次曝光的工艺方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010346287.9
申请日
:
2020-04-27
公开(公告)号
:
CN111538214A
公开(公告)日
:
2020-08-14
发明(设计)人
:
史建新
申请人
:
申请人地址
:
215000 江苏省苏州市工业园区唯亭葑亭大道502号
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
代理机构
:
苏州言思嘉信专利代理事务所(普通合伙) 32385
代理人
:
邵永永
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-08-14
公开
公开
2020-09-08
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20200427
共 50 条
[1]
掩膜版的校准标记二次曝光工艺方法
[P].
陈勇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
深圳清溢微电子有限公司
深圳清溢微电子有限公司
陈勇
.
中国专利
:CN117234042B
,2025-01-10
[2]
一种晶圆用二次曝光机
[P].
葛佳
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
昆山臻欧特自动化工程有限公司
昆山臻欧特自动化工程有限公司
葛佳
.
中国专利
:CN221039776U
,2024-05-28
[3]
横隔板二次切割工艺方法
[P].
杨元录
论文数:
0
引用数:
0
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0
杨元录
;
施卫建
论文数:
0
引用数:
0
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施卫建
;
陈月清
论文数:
0
引用数:
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陈月清
;
李胜乾
论文数:
0
引用数:
0
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0
李胜乾
;
夏月刚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
夏月刚
.
中国专利
:CN102814632A
,2012-12-12
[4]
一种石墨底座回收二次加工工艺方法
[P].
苗峙
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
沉积半导体材料(南通)有限公司
沉积半导体材料(南通)有限公司
苗峙
.
中国专利
:CN118026734A
,2024-05-14
[5]
一种网版二次曝光用快速定位装置
[P].
祖伟星
论文数:
0
引用数:
0
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0
祖伟星
.
中国专利
:CN212905896U
,2021-04-06
[6]
二次蒸法生产粽子的工艺方法
[P].
吴学群
论文数:
0
引用数:
0
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0
吴学群
.
中国专利
:CN103099071A
,2013-05-15
[7]
一种改性PP料二次套塑的工艺方法
[P].
黄小明
论文数:
0
引用数:
0
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0
黄小明
.
中国专利
:CN103203854B
,2013-07-17
[8]
集成电路用掩模版二次曝光方法
[P].
刘维维
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘维维
;
尤春
论文数:
0
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尤春
;
王兴平
论文数:
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王兴平
;
沙云峰
论文数:
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0
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沙云峰
;
朱希进
论文数:
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朱希进
;
季书凤
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季书凤
;
张月圆
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张月圆
;
杨晨
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杨晨
;
刘浩
论文数:
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刘浩
;
胡超
论文数:
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0
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0
胡超
.
中国专利
:CN108020990A
,2018-05-11
[9]
二次焙烧与石墨化系统及二次焙烧与石墨化工艺方法
[P].
张伟天
论文数:
0
引用数:
0
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0
张伟天
.
中国专利
:CN100374370C
,2006-09-13
[10]
PCB二次线路镀金工艺
[P].
许相会
论文数:
0
引用数:
0
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0
许相会
.
中国专利
:CN111885844A
,2020-11-03
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