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一种晶圆用二次曝光机
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202321917776.0
申请日：
2023-07-20
公开(公告)号：
CN221039776U
公开(公告)日：
2024-05-28
发明(设计)人：
葛佳
申请人：
昆山臻欧特自动化工程有限公司
申请人地址：
215314 江苏省苏州市昆山市周市镇万安路385号
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
代理机构：
北京中安信知识产权代理有限公司 11248
代理人：
赵黎虹
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-05-28 | 授权 | 授权 |