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一种晶圆曝光机
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201921744596.0
申请日：
2019-10-17
公开(公告)号：
CN210721014U
公开(公告)日：
2020-06-09
发明(设计)人：
何海洋
胡健峰
彭强
申请人：
申请人地址：
214000 江苏省无锡市新吴区菱湖大道111号无锡软件园天鹅座D座562室
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-06-09 | 授权 | 授权 |