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晶圆曝光机及晶圆曝光方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010884891.7
申请日：
2020-08-28
公开(公告)号：
CN111929994A
公开(公告)日：
2020-11-13
发明(设计)人：
童立峰
戴韫青
王剑
申请人：
申请人地址：
201315 上海市浦东新区良腾路6号
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
G03F900
代理机构：
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人：
曹廷廷
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-11-13 | 公开 | 公开 |
| 2020-12-01 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20200828 |