薄膜掩模修正装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310435048.0

申请日：

2013-09-23

公开(公告)号：

CN103792801A

公开(公告)日：

2014-05-14

发明(设计)人：

阿部和芳杉田健一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

李辉;黄纶伟

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-05-14	公开	公开
2016-06-22	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101734341201 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2013104350480 申请公布日:20140514

共 50 条

[1]

掩模缺陷修正装置和掩模缺陷修正方法 [P].

中川良知 ;

朝生光人 ;

铃木胜美 ;

冈部卫 ;

荷田昌克 .

日本专利 :CN111736424B ,2024-02-13

[2]

掩模缺陷修正装置和掩模缺陷修正方法 [P].

中川良知 ;

朝生光人 ;

铃木胜美 ;

冈部卫 ;

荷田昌克 .

中国专利 :CN111736424A ,2020-10-02

[3]

薄膜加工设备、薄膜偏移修正装置及薄膜偏移修正方法 [P].

陈安顺 .

中国专利 :CN115771796B ,2025-09-02

[4]

薄膜加工设备及薄膜偏移修正装置 [P].

陈安顺 .

中国专利 :CN215946274U ,2022-03-04

[5]

一种光学临近效应的修正方法、修正装置及掩模 [P].

马乐 ;

韦亚一 ;

张利斌 ;

陈睿 .

中国专利 :CN110716386A ,2020-01-21

[6]

一种薄膜偏移修正装置 [P].

伍丽娜 .

中国专利 :CN221116307U ,2024-06-11

[7]

用于光掩模的薄膜以及包括该薄膜的曝光装置 [P].

宋伣在 ;

申铉振 .

中国专利 :CN107561853A ,2018-01-09

[8]

一种薄膜加工设备及薄膜偏移修正装置 [P].

吴杰 .

中国专利 :CN117601328A ,2024-02-27

[9]

光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法 [P].

宫崎由宽 .

中国专利 :CN111665681A ,2020-09-15

[10]

溅射薄膜的厚度均匀性修正装置 [P].

张平 ;

周瑞山 ;

谢强 ;

殷志茹 ;

张敏 ;

罗向阳 ;

龚漫莉 ;

叶萍 ;

张青 ;

张铎 ;

王倩 ;

龚国刚 .

中国专利 :CN201212059Y ,2009-03-25

← 1 2 3 4 5 →