光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010143020.X

申请日：

2020-03-04

公开(公告)号：

CN111665681A

公开(公告)日：

2020-09-15

发明(设计)人：

宫崎由宽

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F172

IPC分类号：

G03F176 G03F148

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

朱丽娟;崔成哲

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-02-11	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/72 申请日:20200304
2020-09-15	公开	公开

共 50 条

[1]

光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法 [P].

宫崎由宽 .

日本专利 :CN111665681B ,2024-10-18

[2]

光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法 [P].

三好将之 ;

一之濑敬 .

中国专利 :CN109388018B ,2019-02-26

[3]

光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法 [P].

今敷修久 .

中国专利 :CN111665680A ,2020-09-15

[4]

光掩模、光掩模的制造方法及修正方法 [P].

长井隆治 ;

高见泽秀吉 ;

毛利弘 ;

森川泰考 ;

早野胜也 .

中国专利 :CN102308256B ,2012-01-04

[5]

光掩模及其修正方法、制造方法、显示装置的制造方法 [P].

三好将之 ;

一之濑敬 .

中国专利 :CN109491193B ,2019-03-19

[6]

光掩模、光掩模的制造方法、显示装置的制造方法 [P].

田中千惠 ;

齐藤隆史 ;

山田步实 ;

森山久美子 ;

福泉照夫 .

中国专利 :CN114114827A ,2022-03-01

[7]

光掩模的制造方法、光掩模及显示装置的制造方法 [P].

山口昇 .

中国专利 :CN107402496A ,2017-11-28

[8]

光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法 [P].

田边胜 ;

浅川敬司 ;

安森顺一 .

日本专利 :CN113391515B ,2025-02-25

[9]

光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法 [P].

田边胜 ;

浅川敬司 ;

安森顺一 .

中国专利 :CN113391515A ,2021-09-14

[10]

光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法 [P].

田边胜 ;

浅川敬司 ;

安森顺一 ;

石原重德 ;

花冈修 .

中国专利 :CN111258175A ,2020-06-09

← 1 2 3 4 5 →