光掩模、光掩模的制造方法及修正方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080007022.0

申请日：

2010-02-04

公开(公告)号：

CN102308256B

公开(公告)日：

2012-01-04

发明(设计)人：

长井隆治高见泽秀吉毛利弘森川泰考早野胜也

申请人：

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

G03F132

IPC分类号：

G03F138 H01L21027

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

雒运朴

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-02-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101190914930 IPC(主分类):G03F 1/08 专利申请号:2010800070220 申请日:20100204
2012-01-04	公开	公开
2013-09-25	授权	授权

共 50 条

[1]

光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法 [P].

三好将之 ;

一之濑敬 .

中国专利 :CN109388018B ,2019-02-26

[2]

光掩模坯料、光掩模及光掩模的制造方法 [P].

野泽顺 .

中国专利 :CN101556432A ,2009-10-14

[3]

掩模坯的制造方法、掩模坯、光掩模的制造方法及光掩模 [P].

铃木寿弘 ;

细谷守男 ;

金井修一郎 ;

中畦修 .

中国专利 :CN115698849A ,2023-02-03

[4]

光掩模缺陷修正方法、图案转印方法、光掩模及其制造方法 [P].

坂本有司 .

中国专利 :CN102445833A ,2012-05-09

[5]

光掩模基板的制造方法、光掩模基板、光掩模的制造方法和光掩模 [P].

宫崎由宽 .

中国专利 :CN110967919A ,2020-04-07

[6]

光掩模和光掩模的制造方法 [P].

山口昇 .

中国专利 :CN110147029B ,2019-08-20

[7]

光图案曝光方法,光掩模及光掩模坯料 [P].

吉川博树 ;

稻月判臣 ;

小板桥龙二 ;

金子英雄 ;

小岛洋介 ;

原口崇 ;

广濑智一 .

中国专利 :CN103135362B ,2013-06-05

[8]

光掩模和光掩模坯以及光掩模的制造方法 [P].

山田慎吾 ;

森山久美子 ;

美作昌宏 .

中国专利 :CN108693697B ,2018-10-23

[9]

制备光掩模坯料的方法、光掩模坯料，制备光掩模的方法、光掩模和金属铬靶 [P].

稻月判臣 ;

笹本纮平 ;

由利勉 .

中国专利 :CN108415218A ,2018-08-17

[10]

光掩模、光掩模组、光掩模及显示装置的制造方法 [P].

山口昇 .

中国专利 :CN105911812A ,2016-08-31

← 1 2 3 4 5 →