透明氧化物层叠膜、透明氧化物层叠膜的制造方法、溅射靶和透明树脂基板

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980025233.8

申请日：

2019-02-05

公开(公告)号：

CN111954726A

公开(公告)日：

2020-11-17

发明(设计)人：

桑原正和仁藤茂生

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23C1408

IPC分类号：

B32B900 C23C1406 C23C1434

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

陈彦;张默

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-01-01	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/08 申请日:20190205
2022-06-03	发明专利申请公布后的撤回	发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):C23C 14/08 申请公布日:20201117
2020-11-17	公开	公开

共 50 条

[1]

透明氧化物层叠膜、透明氧化物层叠膜的制造方法和透明树脂基板 [P].

桑原正和 ;

仁藤茂生 .

中国专利 :CN111868293A ,2020-10-30

[2]

透明氧化物膜、透明氧化物膜的制造方法、氧化物烧结体和透明树脂基板 [P].

下山田卓矢 ;

桑原正和 ;

仁藤茂生 .

中国专利 :CN111836912A ,2020-10-27

[3]

氧化物溅射膜、氧化物溅射膜的制造方法、氧化物烧结体和透明树脂基板 [P].

桑原正和 ;

仁藤茂生 .

中国专利 :CN111670263A ,2020-09-15

[4]

透明氧化物膜形成用溅射靶及其制造方法 [P].

斋藤淳 ;

张守斌 ;

山口刚 ;

近藤佑一 .

中国专利 :CN104540976A ,2015-04-22

[5]

透明氧化物膜及其制造方法 [P].

山口刚 ;

张守斌 ;

近藤佑一 .

中国专利 :CN103380229A ,2013-10-30

[6]

氧化物膜和氧化物溅射靶 [P].

山本浩由 ;

奈良淳史 .

日本专利 :CN118401695A ,2024-07-26

[7]

氧化物溅射靶和氧化物膜 [P].

宗安慧 ;

奈良淳史 ;

大友大干 .

日本专利 :CN120603983A ,2025-09-05

[8]

复合氧化物烧结体、溅射靶、以及氧化物透明导电膜及其制造方法 [P].

仓持豪人 ;

玉野公章 ;

饭草仁志 ;

秋池良 ;

涉田见哲夫 .

中国专利 :CN103987678B ,2014-08-13

[9]

氧化物膜、氧化物膜的制造方法及含氮氧化物溅射靶 [P].

梅本启太 ;

山口刚 ;

白井孝典 .

中国专利 :CN111542643A ,2020-08-14

[10]

溅射靶、透明导电氧化物和制备该溅射靶的方法 [P].

井上一吉 ;

渋谷忠夫 ;

海上晓 .

中国专利 :CN1379827A ,2002-11-13

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