透明氧化物膜、透明氧化物膜的制造方法、氧化物烧结体和透明树脂基板

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980018058.X

申请日：

2019-01-24

公开(公告)号：

CN111836912A

公开(公告)日：

2020-10-27

发明(设计)人：

下山田卓矢桑原正和仁藤茂生

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23C1408

IPC分类号：

C04B35453 C04B35457 C23C1434

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

陈彦;胡玉美

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-01-01	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/08 申请日:20190124
2020-10-27	公开	公开
2022-06-14	发明专利申请公布后的撤回	发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):C23C 14/08 申请公布日:20201027

共 50 条

[1]

透明氧化物层叠膜、透明氧化物层叠膜的制造方法和透明树脂基板 [P].

桑原正和 ;

仁藤茂生 .

中国专利 :CN111868293A ,2020-10-30

[2]

氧化物溅射膜、氧化物溅射膜的制造方法、氧化物烧结体和透明树脂基板 [P].

桑原正和 ;

仁藤茂生 .

中国专利 :CN111670263A ,2020-09-15

[3]

透明氧化物层叠膜、透明氧化物层叠膜的制造方法、溅射靶和透明树脂基板 [P].

桑原正和 ;

仁藤茂生 .

中国专利 :CN111954726A ,2020-11-17

[4]

氧化物烧结体、靶电极、氧化物透明电极的制造方法以及氧化物透明导电膜 [P].

阿部能之 ;

中山德行 ;

小原刚 ;

和气理一郎 .

中国专利 :CN102543250A ,2012-07-04

[5]

氧化物烧结体及氧化物透明导电膜 [P].

秋池良 ;

土田裕也 ;

仓持豪人 .

中国专利 :CN108698932B ,2018-10-23

[6]

透明氧化物膜及其制造方法 [P].

山口刚 ;

张守斌 ;

近藤佑一 .

中国专利 :CN103380229A ,2013-10-30

[7]

复合氧化物烧结体及氧化物透明导电膜 [P].

仓持豪人 ;

玉野公章 ;

秋池良 ;

饭草仁志 .

中国专利 :CN104520467A ,2015-04-15

[8]

透明导电膜制造用的氧化物烧结体 [P].

生泽正克 ;

矢作政隆 .

中国专利 :CN102171160A ,2011-08-31

[9]

透明导电膜制造用的氧化物烧结体 [P].

生泽正克 ;

矢作政隆 .

中国专利 :CN102171159A ,2011-08-31

[10]

透明导电氧化物 [P].

理查德·欧内斯特·德马雷 ;

穆昆丹·纳拉辛汉 .

中国专利 :CN1826423A ,2006-08-30

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