透明氧化物膜及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280007565.1

申请日：

2012-02-20

公开(公告)号：

CN103380229A

公开(公告)日：

2013-10-30

发明(设计)人：

山口刚张守斌近藤佑一

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C04B3516 C04B35453 H01L3104

代理机构：

北京德琦知识产权代理有限公司 11018

代理人：

康泉;王珍仙

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-11-27	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101545322778 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2012800075651 申请日:20120220
2016-05-04	授权	授权
2013-10-30	公开	公开

共 50 条

[1]

透明氧化物膜形成用溅射靶及其制造方法 [P].

斋藤淳 ;

张守斌 ;

山口刚 ;

近藤佑一 .

中国专利 :CN104540976A ,2015-04-22

[2]

透明氧化物膜、透明氧化物膜的制造方法、氧化物烧结体和透明树脂基板 [P].

下山田卓矢 ;

桑原正和 ;

仁藤茂生 .

中国专利 :CN111836912A ,2020-10-27

[3]

透明氧化物层叠膜、透明氧化物层叠膜的制造方法、溅射靶和透明树脂基板 [P].

桑原正和 ;

仁藤茂生 .

中国专利 :CN111954726A ,2020-11-17

[4]

复合氧化物烧结体及其制造方法、溅射靶材、以及氧化物透明导电膜及其制造方法 [P].

仓持豪人 ;

饭草仁志 ;

涩田见哲夫 .

中国专利 :CN103140454A ,2013-06-05

[5]

透明氧化物层叠膜、透明氧化物层叠膜的制造方法和透明树脂基板 [P].

桑原正和 ;

仁藤茂生 .

中国专利 :CN111868293A ,2020-10-30

[6]

氧化物膜、氧化物膜的制造方法及含氮氧化物溅射靶 [P].

梅本启太 ;

山口刚 ;

白井孝典 .

中国专利 :CN111542643A ,2020-08-14

[7]

复合氧化物烧结体、溅射靶、以及氧化物透明导电膜及其制造方法 [P].

仓持豪人 ;

玉野公章 ;

饭草仁志 ;

秋池良 ;

涉田见哲夫 .

中国专利 :CN103987678B ,2014-08-13

[8]

氧化物膜及其制造方法 [P].

山添诚司 ;

和田隆博 .

中国专利 :CN104204279A ,2014-12-10

[9]

氧化物烧结体、靶电极、氧化物透明电极的制造方法以及氧化物透明导电膜 [P].

阿部能之 ;

中山德行 ;

小原刚 ;

和气理一郎 .

中国专利 :CN102543250A ,2012-07-04

[10]

金属氧化物膜及其制造方法 [P].

董树新 ;

太田理一郎 ;

村濑雅和 ;

伊关崇 ;

大砂哲 .

中国专利 :CN108699718B ,2018-10-23

← 1 2 3 4 5 →