半导体结构及其形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201010529707.3
申请日
2010-10-28
公开(公告)号
CN102456739A
公开(公告)日
2012-05-16
发明(设计)人
朱慧珑 骆志炯 尹海洲 梁擎擎
申请人
申请人地址
100029 北京市朝阳区北土城西路3号
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L2906 H01L21336 H01L21762
代理机构
北京市立方律师事务所 11330
代理人
马佑平
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN105655253B ,2016-06-08
[2]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN105655398A ,2016-06-08
[3]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
雒曲 ;
谢文浩 .
中国专利 :CN113690185A ,2021-11-23
[4]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
武咏琴 ;
卜伟海 .
中国专利 :CN115472572A ,2022-12-13
[5]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
王文博 ;
卜伟海 ;
俞少峰 .
中国专利 :CN103811322A ,2014-05-21
[6]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
张军超 ;
徐政业 .
中国专利 :CN113539971B ,2021-10-22
[7]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
张步新 ;
蔡孟峰 .
中国专利 :CN105826242A ,2016-08-03
[8]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
禹国宾 .
中国专利 :CN105870005B ,2016-08-17
[9]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN105990341B ,2016-10-05
[10]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
阎大勇 ;
陈星 ;
王志高 .
中国专利 :CN118588716A ,2024-09-03