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半导体结构及其形成方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010279732.4
申请日：
2020-04-10
公开(公告)号：
CN113539971B
公开(公告)日：
2021-10-22
发明(设计)人：
张军超
徐政业
申请人：
申请人地址：
230001 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
IPC主分类号：
H01L218242
IPC分类号：
H01L27108
代理机构：
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294
代理人：
孙佳胤
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-11-09 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/8242 申请日:20200410 |
| 2022-12-02 | 授权 | 授权 |
| 2021-10-22 | 公开 | 公开 |