照明光学系统、光刻装置以及物品制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780051936.9

申请日：

2017-08-28

公开(公告)号：

CN109643069A

公开(公告)日：

2019-04-16

发明(设计)人：

须田广美

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B500 G02B1900

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

许海兰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-05-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20170828
2021-07-27	授权	授权
2019-04-16	公开	公开

共 50 条

[1]

照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法 [P].

大阪升 .

中国专利 :CN109307988B ,2019-02-05

[2]

照明光学系统、曝光装置以及物品的制造方法 [P].

箕田贤 ;

小林大辅 .

中国专利 :CN114911140A ,2022-08-16

[3]

照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法 [P].

水谷将树 ;

须田广美 .

日本专利 :CN112698550B ,2024-12-27

[4]

照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法 [P].

大阪昇 .

日本专利 :CN111505908B ,2024-03-08

[5]

照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法 [P].

大阪昇 .

中国专利 :CN111505908A ,2020-08-07

[6]

照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法 [P].

水谷将树 ;

须田广美 .

中国专利 :CN112698550A ,2021-04-23

[7]

照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法 [P].

大阪昇 .

中国专利 :CN107807494A ,2018-03-16

[8]

压印装置、照明光学系统及物品制造方法 [P].

松本隆宏 .

中国专利 :CN105372932B ,2016-03-02

[9]

照明光学系统、曝光设备以及制造物品的方法 [P].

须田广美 .

中国专利 :CN105974742A ,2016-09-28

[10]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113439239A ,2021-09-24

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