曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080014640.1

申请日：

2020-03-04

公开(公告)号：

CN113439239A

公开(公告)日：

2021-09-24

发明(设计)人：

吉田亮平井田真高吉田大辅野嶋琢己松桥佑介渡辺畅章

申请人：

申请人地址：

日本东京港区港南二丁目15番3号(邮递区号:108-6290)

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

郑乐;臧建明

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-09-24	公开	公开
2022-04-12	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20200304

共 50 条

[1]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

日本专利 :CN117908338A ,2024-04-19

[2]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

日本专利 :CN113439239B ,2024-03-26

[3]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113383275A ,2021-09-10

[4]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

日本专利 :CN113383275B ,2024-03-12

[5]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113439236A ,2021-09-24

[6]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

日本专利 :CN113439236B ,2024-06-04

[7]

照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法 [P].

田中裕久 .

中国专利 :CN101681123B ,2010-03-24

[8]

照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法 [P].

田中裕久 .

中国专利 :CN101681125B ,2010-03-24

[9]

照明光学系统、曝光装置以及产品的制造方法 [P].

中山谅 ;

小林大辅 .

中国专利 :CN111381455A ,2020-07-07

[10]

照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法 [P].

大阪升 .

中国专利 :CN109307988B ,2019-02-05

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