照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880021453.5

申请日：

2008-09-12

公开(公告)号：

CN101681125B

公开(公告)日：

2010-03-24

发明(设计)人：

田中裕久

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019

代理人：

寿宁

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-20	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20080912 授权公告日:20130821 终止日期:20200912
2013-08-21	授权	授权
2010-03-24	公开	公开
2010-11-24	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101016912964 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2008800214535 申请日:20080912

共 50 条

[1]

照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法 [P].

田中裕久 .

中国专利 :CN101681123B ,2010-03-24

[2]

照明光学系统、曝光设备、光学元件和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN102385258B ,2012-03-21

[3]

照明光学系统、照明方法、曝光装置以及曝光方法 [P].

谷津修 ;

田中裕久 .

中国专利 :CN105606344A ,2016-05-25

[4]

照明光学系统、曝光装置以及组件制造方法 [P].

田中裕久 ;

大木裕史 ;

中岛伸一 .

中国专利 :CN104025257A ,2014-09-03

[5]

照明光学系统、曝光装置以及器件制造方法 [P].

谷津修 ;

田中裕久 .

中国专利 :CN101910817B ,2010-12-08

[6]

照明光学系统、曝光设备、光学元件和其制造方法和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN101743497A ,2010-06-16

[7]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113383275A ,2021-09-10

[8]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

日本专利 :CN113383275B ,2024-03-12

[9]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113439239A ,2021-09-24

[10]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113439236A ,2021-09-24

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