照明光学系统、曝光设备、光学元件和其制造方法和装置制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880024806.7

申请日：

2008-09-10

公开(公告)号：

CN101743497A

公开(公告)日：

2010-06-16

发明(设计)人：

谷津修

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G02B2608

IPC分类号：

G03F720 G02B2709 G02B2700

代理机构：

北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019

代理人：

寿宁

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-03-26	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101699409938 IPC(主分类):G02B 26/08 专利申请号:2008800248067 申请公布日:20100616
2010-06-16	公开	公开
2010-09-01	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101005251254 IPC(主分类):G02B 26/08 专利申请号:2008800248067 申请日:20080910

共 50 条

[1]

照明光学系统、曝光设备、光学元件和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN102385258B ,2012-03-21

[2]

照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法 [P].

田中裕久 .

中国专利 :CN101681125B ,2010-03-24

[3]

照明光学装置的制造方法、照明方法、曝光方法和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN103488056B ,2014-01-01

[4]

照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法 [P].

田中裕久 .

中国专利 :CN101681123B ,2010-03-24

[5]

棱镜光学系统、照明光学系统、曝光设备和装置制造方法 [P].

大阪昇 ;

福冈亮介 ;

吉冈均 .

中国专利 :CN104122757A ,2014-10-29

[6]

照明光学系统、曝光装置以及器件制造方法 [P].

谷津修 ;

田中裕久 .

中国专利 :CN101910817B ,2010-12-08

[7]

光学单元、照明光学设备、曝光设备和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN101765799B ,2010-06-30

[8]

照明光学设备、曝光设备、照明方法、曝光方法和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN103777471B ,2014-05-07

[9]

照明光学设备、曝光设备、照明方法、曝光方法和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN103777363B ,2014-05-07

[10]

照明光学设备、曝光设备、照明方法、曝光方法和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN103777345B ,2014-05-07

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