照明光学系统、曝光装置以及器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980101546.3

申请日：

2009-05-12

公开(公告)号：

CN101910817B

公开(公告)日：

2010-12-08

发明(设计)人：

谷津修田中裕久

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G01M1100

IPC分类号：

G03F720 H01L21027

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

经志强;杨林森

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-01-19	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101032298665 IPC(主分类):G01M 11/00 专利申请号:2009801015463 申请日:20090512
2010-12-08	公开	公开
2016-03-09	授权	授权

共 50 条

[1]

照明光学系统、照明方法、曝光装置以及曝光方法 [P].

谷津修 ;

田中裕久 .

中国专利 :CN105606344A ,2016-05-25

[2]

照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法 [P].

田中裕久 .

中国专利 :CN101681125B ,2010-03-24

[3]

照明光学系统、曝光装置及器件制造方法 [P].

小松宏一郎 ;

川户聪 ;

大川智之 .

日本专利 :CN120457390A ,2025-08-08

[4]

照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法 [P].

大阪升 .

中国专利 :CN109307988B ,2019-02-05

[5]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113383275A ,2021-09-10

[6]

照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法 [P].

田中裕久 .

中国专利 :CN101681123B ,2010-03-24

[7]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113439239A ,2021-09-24

[8]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113439236A ,2021-09-24

[9]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

日本专利 :CN117908338A ,2024-04-19

[10]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

日本专利 :CN113383275B ,2024-03-12

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