光学单元、照明光学设备、曝光设备和装置制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880100940.0

申请日：

2008-10-23

公开(公告)号：

CN101765799B

公开(公告)日：

2010-06-30

发明(设计)人：

谷津修

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G02B2709

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019

代理人：

寿宁

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-08-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101005080602 IPC(主分类):G02B 27/09 专利申请号:2008801009400 申请日:20081023
2010-06-30	公开	公开
2021-10-01	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 27/09 申请日:20081023 授权公告日:20140226 终止日期:20201023
2014-02-26	授权	授权

共 50 条

[1]

照明光学设备、曝光设备、照明方法、曝光方法和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN103777471B ,2014-05-07

[2]

照明光学设备、曝光设备、照明方法、曝光方法和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN103777363B ,2014-05-07

[3]

照明光学设备、曝光设备、照明方法、曝光方法和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN103777345B ,2014-05-07

[4]

照明光学系统、曝光设备、光学元件和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN102385258B ,2012-03-21

[5]

照明光学系统、曝光设备、光学元件和其制造方法和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN101743497A ,2010-06-16

[6]

照明光学装置的制造方法、照明方法、曝光方法和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN103488056B ,2014-01-01

[7]

光学单元、照明光学装置、曝光装置、曝光方法以及元件制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN101681120B ,2010-03-24

[8]

照明光学设备、曝光装置和制造物品的方法 [P].

须田广美 .

中国专利 :CN105446085B ,2016-03-30

[9]

投射曝光设备的照明光学单元 [P].

I.桑格 .

中国专利 :CN104169800B ,2014-11-26

[10]

照明光学装置、曝光装置和曝光方法 [P].

重松幸二 .

中国专利 :CN100536071C ,2007-07-25

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