照明光学装置、曝光装置和曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580028180.3

申请日：

2005-10-12

公开(公告)号：

CN100536071C

公开(公告)日：

2007-07-25

发明(设计)人：

重松幸二

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

G02B1324

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

雒运朴;徐谦

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-07-25	公开	公开
2009-09-02	授权	授权
2007-10-03	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

照明光学装置的制造方法、照明方法、曝光方法和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN103488056B ,2014-01-01

[2]

光学积分器、照明光学装置、曝光装置以及曝光方法 [P].

小松田秀基 .

中国专利 :CN101069267A ,2007-11-07

[3]

照明光学系统、曝光设备、光学元件和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN102385258B ,2012-03-21

[4]

照明光学装置、曝光装置及曝光方法 [P].

田中裕久 ;

谷津修 ;

豊田光纪 .

中国专利 :CN1461973A ,2003-12-17

[5]

照明光学系统、曝光设备、光学元件和其制造方法和装置制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN101743497A ,2010-06-16

[6]

照明光学装置的调整方法、照明光学装置、曝光装置以及曝光方法 [P].

谷津修 ;

广田弘之 ;

重松幸二 ;

栗田信一 .

中国专利 :CN101164142B ,2008-04-16

[7]

曝光装置及照明光学装置 [P].

熊泽雅人 .

中国专利 :CN107229190B ,2017-10-03

[8]

照明光学系统、曝光装置以及产品的制造方法 [P].

中山谅 ;

小林大辅 .

中国专利 :CN111381455A ,2020-07-07

[9]

照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法 [P].

大阪升 .

中国专利 :CN109307988B ,2019-02-05

[10]

照明光学系统及曝光装置 [P].

大泽理 ;

伊藤公一 .

日本专利 :CN117501183A ,2024-02-02

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