曝光装置及照明光学装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710459660.X

申请日：

2013-03-26

公开(公告)号：

CN107229190B

公开(公告)日：

2017-10-03

发明(设计)人：

熊泽雅人

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F724

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

陈伟;王娟娟

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-03-20	授权	授权
2017-11-03	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/24 申请日:20130326
2017-10-03	公开	公开

共 50 条

[1]

曝光装置及曝光方法 [P].

熊泽雅人 .

中国专利 :CN105652609A ,2016-06-08

[2]

照明光学系统及曝光装置 [P].

大泽理 ;

伊藤公一 .

日本专利 :CN117501183A ,2024-02-02

[3]

照明光学装置、曝光装置及曝光方法 [P].

田中裕久 ;

谷津修 ;

豊田光纪 .

中国专利 :CN1461973A ,2003-12-17

[4]

照明光学装置、曝光装置和曝光方法 [P].

重松幸二 .

中国专利 :CN100536071C ,2007-07-25

[5]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113383275A ,2021-09-10

[6]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113439239A ,2021-09-24

[7]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113439236A ,2021-09-24

[8]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

日本专利 :CN117908338A ,2024-04-19

[9]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

日本专利 :CN113383275B ,2024-03-12

[10]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

日本专利 :CN113439236B ,2024-06-04

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