照明光学系统、曝光装置以及组件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280064004.5

申请日：

2012-10-18

公开(公告)号：

CN104025257A

公开(公告)日：

2014-09-03

发明(设计)人：

田中裕久大木裕史中岛伸一

申请人：

申请人地址：

日本东京千代田区有乐町一丁目12番1号

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

臧建明

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-11-26	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101589117515 IPC(主分类):H01L 21/027 专利申请号:2012800640045 申请日:20121018
2017-09-19	授权	授权
2014-09-03	公开	公开

共 50 条

[1]

照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法 [P].

田中裕久 .

中国专利 :CN101681123B ,2010-03-24

[2]

照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法 [P].

田中裕久 .

中国专利 :CN101681125B ,2010-03-24

[3]

照明光学系统、曝光装置以及产品的制造方法 [P].

中山谅 ;

小林大辅 .

中国专利 :CN111381455A ,2020-07-07

[4]

照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法 [P].

大阪升 .

中国专利 :CN109307988B ,2019-02-05

[5]

照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法 [P].

水谷将树 ;

须田广美 .

日本专利 :CN112698550B ,2024-12-27

[6]

照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法 [P].

水谷将树 ;

须田广美 .

中国专利 :CN112698550A ,2021-04-23

[7]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113383275A ,2021-09-10

[8]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113439239A ,2021-09-24

[9]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113439236A ,2021-09-24

[10]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

日本专利 :CN117908338A ,2024-04-19

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