一种用于真空磁控溅射类纯金色金合金靶材及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811066522.6

申请日：

2018-09-11

公开(公告)号：

CN108754211A

公开(公告)日：

2018-11-06

发明(设计)人：

赵宏达柳泉常占河刘革于志凯

申请人：

申请人地址：

110015 辽宁省沈阳市沈河区文化东路89号

IPC主分类号：

C22C502

IPC分类号：

C22C102 C22F102 C22F114 C23C1414 C23C1435

代理机构：

沈阳东大知识产权代理有限公司 21109

代理人：

宁佳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-11-06	公开	公开
2018-11-30	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C22C 5/02 申请日:20180911
2019-09-13	发明专利申请公布后的撤回	发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):C22C 5/02 申请公布日:20181106

共 50 条

[1]

一种用于真空磁控溅射的金铜合金靶材及其制备方法 [P].

赵宏达 ;

刘革 ;

常占河 ;

于志凯 .

中国专利 :CN111188010A ,2020-05-22

[2]

一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材及其制备方法 [P].

刘革 ;

赵宏达 ;

于志凯 ;

王伟 ;

柳泉 .

中国专利 :CN104894525A ,2015-09-09

[3]

一种用于真空磁控溅射的铝银合金靶材及其制备方法 [P].

赵宏达 ;

刘革 ;

常占河 ;

柳泉 ;

于志凯 .

中国专利 :CN109989045B ,2019-07-09

[4]

用于真空磁控溅射银基合金靶材坯料及其制备方法和应用 [P].

张勤 ;

杨洪英 ;

张德胜 ;

夏军 ;

金哲男 ;

佟琳琳 ;

陈国宝 ;

肖发新 ;

刘子龙 ;

吕建芳 .

中国专利 :CN106947879A ,2017-07-14

[5]

一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材及其制备方法 [P].

刘革 .

中国专利 :CN101949005A ,2011-01-19

[6]

一种低金含量金色合金靶材及其制备方法和应用 [P].

赵宏达 ;

常占河 .

中国专利 :CN119433275A ,2025-02-14

[7]

一种用于真空磁控溅射粉红色金靶材及其制备方法 [P].

赵宏达 ;

刘革 ;

于志凯 .

中国专利 :CN103938174A ,2014-07-23

[8]

用于真空磁控溅射的低含金量玫瑰金靶材及其制备方法 [P].

赵宏达 ;

刘革 ;

于志凯 .

中国专利 :CN102703751B ,2012-10-03

[9]

一种磁控溅射用铝钕锌合金靶材及制造方法 [P].

陈枫 ;

范丁强 .

中国专利 :CN119640216A ,2025-03-18

[10]

一种用于磁控溅射晶界扩散的稀土合金靶材及其制备方法 [P].

郑波 ;

陈仁杰 ;

郭帅 ;

丁广飞 ;

范晓东 ;

冯智俊 ;

范庆伟 ;

闫阿儒 .

中国专利 :CN113957405A ,2022-01-21

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