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用于真空磁控溅射的低含金量玫瑰金靶材及其制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201210117559.3
申请日
:
2012-04-20
公开(公告)号
:
CN102703751B
公开(公告)日
:
2012-10-03
发明(设计)人
:
赵宏达
刘革
于志凯
申请人
:
申请人地址
:
110015 辽宁省沈阳市和平区文化东路89号
IPC主分类号
:
C22C502
IPC分类号
:
C22C103
C23C1435
代理机构
:
沈阳东大专利代理有限公司 21109
代理人
:
李在川
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2013-08-21
授权
授权
2012-11-28
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101353327910 IPC(主分类):C22C 5/02 专利申请号:2012101175593 申请日:20120420
2012-10-03
公开
公开
共 50 条
[1]
一种磁控溅射玫瑰金靶材及其制备方法
[P].
刘革
论文数:
0
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0
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刘革
.
中国专利
:CN101358331A
,2009-02-04
[2]
一种用于真空磁控溅射粉红色金靶材及其制备方法
[P].
赵宏达
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赵宏达
;
刘革
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刘革
;
于志凯
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于志凯
.
中国专利
:CN103938174A
,2014-07-23
[3]
一种用于真空磁控溅射的金铜合金靶材及其制备方法
[P].
赵宏达
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赵宏达
;
刘革
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刘革
;
常占河
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常占河
;
于志凯
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于志凯
.
中国专利
:CN111188010A
,2020-05-22
[4]
一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材及其制备方法
[P].
刘革
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刘革
.
中国专利
:CN101949005A
,2011-01-19
[5]
一种用于真空磁控溅射的铝银合金靶材及其制备方法
[P].
赵宏达
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赵宏达
;
刘革
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刘革
;
常占河
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常占河
;
柳泉
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柳泉
;
于志凯
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于志凯
.
中国专利
:CN109989045B
,2019-07-09
[6]
一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材及其制备方法
[P].
刘革
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刘革
;
赵宏达
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赵宏达
;
于志凯
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于志凯
;
王伟
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王伟
;
柳泉
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柳泉
.
中国专利
:CN104894525A
,2015-09-09
[7]
一种用于真空磁控溅射类纯金色金合金靶材及其制备方法
[P].
赵宏达
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赵宏达
;
柳泉
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柳泉
;
常占河
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常占河
;
刘革
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刘革
;
于志凯
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于志凯
.
中国专利
:CN108754211A
,2018-11-06
[8]
用于真空磁控溅射银基合金靶材坯料及其制备方法和应用
[P].
张勤
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张勤
;
杨洪英
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杨洪英
;
张德胜
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张德胜
;
夏军
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夏军
;
金哲男
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金哲男
;
佟琳琳
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佟琳琳
;
陈国宝
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陈国宝
;
肖发新
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肖发新
;
刘子龙
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刘子龙
;
吕建芳
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吕建芳
.
中国专利
:CN106947879A
,2017-07-14
[9]
抗变色玫瑰金靶材及其制备方法
[P].
朱振华
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朱振华
;
黄涛
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黄涛
.
中国专利
:CN104032273A
,2014-09-10
[10]
真空磁控溅射的旋转靶装置
[P].
廖荣新
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廖荣新
;
黄进高
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黄进高
;
禤瑞彬
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禤瑞彬
.
中国专利
:CN202181345U
,2012-04-04
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