用于真空磁控溅射的低含金量玫瑰金靶材及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210117559.3
申请日
2012-04-20
公开(公告)号
CN102703751B
公开(公告)日
2012-10-03
发明(设计)人
赵宏达 刘革 于志凯
申请人
申请人地址
110015 辽宁省沈阳市和平区文化东路89号
IPC主分类号
C22C502
IPC分类号
C22C103 C23C1435
代理机构
沈阳东大专利代理有限公司 21109
代理人
李在川
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种磁控溅射玫瑰金靶材及其制备方法 [P]. 
刘革 .
中国专利 :CN101358331A ,2009-02-04
[2]
一种用于真空磁控溅射粉红色金靶材及其制备方法 [P]. 
赵宏达 ;
刘革 ;
于志凯 .
中国专利 :CN103938174A ,2014-07-23
[3]
一种用于真空磁控溅射的金铜合金靶材及其制备方法 [P]. 
赵宏达 ;
刘革 ;
常占河 ;
于志凯 .
中国专利 :CN111188010A ,2020-05-22
[4]
一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材及其制备方法 [P]. 
刘革 .
中国专利 :CN101949005A ,2011-01-19
[5]
一种用于真空磁控溅射的铝银合金靶材及其制备方法 [P]. 
赵宏达 ;
刘革 ;
常占河 ;
柳泉 ;
于志凯 .
中国专利 :CN109989045B ,2019-07-09
[6]
一种用于真空磁控溅射铂铑合金靶材及其制备方法 [P]. 
刘革 ;
赵宏达 ;
于志凯 ;
王伟 ;
柳泉 .
中国专利 :CN104894525A ,2015-09-09
[7]
一种用于真空磁控溅射类纯金色金合金靶材及其制备方法 [P]. 
赵宏达 ;
柳泉 ;
常占河 ;
刘革 ;
于志凯 .
中国专利 :CN108754211A ,2018-11-06
[8]
用于真空磁控溅射银基合金靶材坯料及其制备方法和应用 [P]. 
张勤 ;
杨洪英 ;
张德胜 ;
夏军 ;
金哲男 ;
佟琳琳 ;
陈国宝 ;
肖发新 ;
刘子龙 ;
吕建芳 .
中国专利 :CN106947879A ,2017-07-14
[9]
抗变色玫瑰金靶材及其制备方法 [P]. 
朱振华 ;
黄涛 .
中国专利 :CN104032273A ,2014-09-10
[10]
真空磁控溅射的旋转靶装置 [P]. 
廖荣新 ;
黄进高 ;
禤瑞彬 .
中国专利 :CN202181345U ,2012-04-04